[發(fā)明專利]用于熱調(diào)節(jié)光學元件的方法和系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980121967.2
• 申請日: 2009-05-20
• 公開（公告）號: CN102057332A
• 公開（公告）日: 2011-05-11
• 發(fā)明（設計）人: R·施密特茲;T·范埃姆派爾;M·姆伊特詹斯;程倫;F·詹森;W·范海爾登;R·沃思魯伊斯;P·斯加里曼;A·萊克斯蒙德;E·尼埃烏庫普;B·伯特斯;M·萊蒙;R·范德格拉夫;M·德克魯恩;H·維爾蘇伊斯
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

相關申請的交叉引用

本申請要求于2008年6月9日遞交的美國臨時申請61/129,180的權(quán)利，其通過參考全部并入本文。

技術領域

本發(fā)明涉及一種用于熱調(diào)節(jié)光學元件的方法和系統(tǒng)。

背景技術

在許多技術領域中，期望熱調(diào)節(jié)光學元件，尤其是遭受高的熱負載的光學元件。在下文中，作為示例，將會描述光刻領域。

光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底上，通常是襯底的目標部分上的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(ICs)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案。可以將該圖案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。通常，圖案的轉(zhuǎn)移是通過把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進行的。通常，單獨的襯底將包含被連續(xù)形成圖案的相鄰目標部分的網(wǎng)絡。

光刻技術被廣泛地看作制造IC或其他裝置和/或結(jié)構(gòu)的關鍵步驟之一。然而，隨著使用光刻技術形成的特征的尺寸不斷變小，光刻技術變成對于實現(xiàn)要制造的最小化IC或其他裝置和/或結(jié)構(gòu)來說更為關鍵的因素。

圖案印刷的限制的理論上的估計由分辨率的瑞利準則給出，如下式(1)所示：

CD=k1*λNAPS---(1)]]>

其中λ是所使用輻射的波長，NA_PS是用于印刷圖案的投影系統(tǒng)的數(shù)值孔徑，k₁是依賴工藝的調(diào)節(jié)因子，也稱為瑞利常數(shù)，以及CD是印刷的特征的特征尺寸(或臨界尺寸)。由等式(1)可以知道，可以以三種方式獲得特征的最小可印刷尺寸的減小：縮短曝光波長λ、增大數(shù)值孔徑NA_PS或減小k₁的值。

為了縮短曝光波長并因此減小最小可印刷尺寸，已經(jīng)提出使用極紫外(EUV)輻射源。EUV輻射源配置成輸出5nm-20nm之間輻射波長。因此，EUV輻射源可以朝向?qū)崿F(xiàn)小特征印刷邁出重要的一步。這種輻射被稱為極紫外或軟X射線，并且可能的源包括例如激光產(chǎn)生的等離子體源、放電等離子體源或由電子存儲環(huán)產(chǎn)生的同步加速輻射。

為了提供所需的高水平的成像精確度，設備的光學元件應該在各個襯底步驟中精確地定位(例如在各自的靜止位置)。因此，期望盡可能實際地抑制投影光學元件的不可控的振動。

此外，期望增大源的功率以提供增大的輻射劑量，例如以改善生產(chǎn)量。然而，增大的輻射劑量會在設備中導致較高的熱負載。結(jié)果，由于增大的熱膨脹以及由于熱負載帶來的與污染相關的問題，投影系統(tǒng)的光學部件(例如反射鏡)的性能被削弱了。

發(fā)明內(nèi)容

期望地，至少部分地減少上述問題。具體地，期望提供一種有效的方法以熱調(diào)節(jié)在其操作期間會遭受高的熱負載的光學元件，而不會削弱所述元件的操作的精確度。

根據(jù)一個實施例，提供一種用于熱調(diào)節(jié)光學元件的方法。所述方法包括用輻射照射光學元件，不用輻射照射光學元件，在所述光學元件和保持在調(diào)節(jié)流體儲存器內(nèi)的調(diào)節(jié)流體之間實現(xiàn)熱流動，以及提供所述調(diào)節(jié)流體的流體流動，以提供被熱調(diào)節(jié)的流體至所述儲存器。所述流體在所述光學元件的照射期間的流量低于所述光學元件不被照射時所述流體的流量。所述流體流量在照射期間基本上為零。

根據(jù)一個實施例，提供一種光刻投影方法，包括使用光學元件將圖案形成結(jié)構(gòu)的圖案轉(zhuǎn)移到襯底上的步驟；和熱調(diào)節(jié)所述光學元件的步驟。所述調(diào)節(jié)步驟包括用輻射照射光學元件的步驟；不用輻射照射所述光學元件的步驟；在所述光學元件和保持在調(diào)節(jié)流體儲存器內(nèi)的調(diào)節(jié)流體之間實現(xiàn)熱流動；和提供所述調(diào)節(jié)流體的流體流動，以提供被熱調(diào)節(jié)的流體至所述儲存器。所述流體在所述光學元件的照射期間的流量低于所述光學元件不被照射時所述流體的流量。所述流體的流量在照射期間基本上為零。