[發明專利]用于輻射滅菌的親水性涂層的緩沖膨脹介質有效
| 申請號: | 200980121801.0 | 申請日: | 2009-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN102065918A | 公開(公告)日: | 2011-05-18 |
| 發明(設計)人: | B·R·尼爾森;N·J·麥德森 | 申請(專利權)人: | 科洛普拉斯特公司 |
| 主分類號: | A61L29/08 | 分類號: | A61L29/08;A61L29/14 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 焦麗雅 |
| 地址: | 丹麥胡*** | 國省代碼: | 丹麥;DK |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 輻射 滅菌 親水性 涂層 緩沖 膨脹 介質 | ||
1.一種醫療裝置,其包含滅過菌的親水性涂層,同時接觸包含以下物質的液體:
a)親水性聚合物;和
b)獨立的緩沖劑,其選自羧酸、氨基酸、氨基磺酸和無機酸。
2.根據權利要求1的醫療裝置,其中裝置是親水性涂覆的導管。
3.根據權利要求1或2任一項的醫療裝置,其中親水性涂層是PVP涂層。
4.根據之前任一項權利要求的醫療裝置,使用輻射滅菌。
5.根據之前任一項權利要求的醫療裝置,其中親水性聚合物是沒有緩沖能力的親水性聚合物。
6.根據之前任一項權利要求的醫療裝置,其中親水性聚合物是在約pH4沒有緩沖能力的親水性聚合物。
7.根據之前任一項權利要求的醫療裝置,其中獨立的緩沖劑具有至少一個在2.7至5之間的pKa值。
8.根據之前任一項權利要求的醫療裝置,其中緩沖能力從pH4至pH7.4低于4mM。
9.一種無菌設備,其包含醫療裝置,所述裝置含有親水性涂層,并接觸包含以下物質的含水液體:
a)親水性聚合物;
b)獨立的緩沖劑;
其中所述設備接觸所述液體時使用輻射進行滅菌。
10.根據權利要求9的無菌設備,其中裝置是親水性涂覆導管。
11.根據權利要求9或10任一項的無菌設備,其中親水性涂層是PVP涂層。
12.根據權利要求9-11任一項的無菌設備,使用輻射滅菌。
13.根據權利要求9-12任一項的無菌設備,其中親水性聚合物是沒有緩沖能力的親水性聚合物。
14.根據權利要求9-13任一項的無菌設備,其中親水性聚合物是在約pH4沒有緩沖能力的親水性聚合物。
15.根據權利要求9-14任一項的無菌設備,其中獨立的緩沖劑具有至少一個在2.7至5之間的pKa值。
16.根據權利要求9-15任一項的無菌設備,其中緩沖能力從pH4至pH7.4低于4mM。
17.使用輻射將包含親水性涂層的醫療裝置滅菌的方法,所述方法包括以下步驟:使具有這樣涂層的醫療裝置接觸含水液體,用于濕潤親水性涂層,所述液體包含親水性聚合物和獨立的緩沖劑的溶液,并且通過使用足量的輻射將裝置滅菌。
18.根據權利要求17的方法,其中所述裝置是親水性涂覆的導管。
19.根據權利要求17或18任一項的方法,其中所述親水性涂層是PVP涂層。
20.根據權利要求17-19任一項的方法,其中所述親水性聚合物是沒有緩沖能力的親水性聚合物。
21.根據權利要求17-20任一項的方法,其中所述親水性聚合物是在約pH4沒有緩沖能力的親水性聚合物。
22.根據權利要求17-21任一項的方法,其中所述獨立的緩沖劑具有至少一個在2.7至5之間的pKa值。
23.根據權利要求17-22任一項的方法,其中緩沖能力從pH4至pH7.4低于4mM。
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