[發(fā)明專利]搭載半導體元件的基板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980121341.1 | 申請日: | 2009-06-03 |
| 公開(公告)號: | CN102057484A | 公開(公告)日: | 2011-05-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 杉野光生;原英貴;和布浦徹 | 申請(專利權(quán))人: | 住友電木株式會社 |
| 主分類號: | H01L23/14 | 分類號: | H01L23/14;H01L23/29;H01L23/31 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 菅興成;吳小瑛 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 搭載 半導體 元件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種搭載半導體元件的基板。
背景技術(shù)
在電子儀器中,搭載有連接IC芯片、電容器等的半導體元件的基板。
近年來,伴隨著電子儀器的小型化、高性能化,搭載于一個基板上的半導體元件的數(shù)量趨于增大,存在半導體元件的安裝面積不足的問題。
為了解決這種問題,通過將半導體元件嵌入多層布線基板內(nèi),進行了確保半導體元件的安裝面積、實現(xiàn)高密度封裝化的嘗試(例如,參照專利文獻1)。
但是,在如此內(nèi)置有半導體元件的搭載半導體元件的基板中,其結(jié)構(gòu)形成上下不對稱,此外,在物理性質(zhì)上變得也不對稱,因此,存在有在基板上發(fā)生翹曲等而導致搭載半導體元件的基板的可靠性降低的問題。
專利文獻1:日本特開2005-236039號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
本發(fā)明的目的在于提供一種搭載半導體元件的基板,其能夠防止翹曲的發(fā)生,并且能夠防止內(nèi)置的半導體元件從基板上剝離。
解決課題的方法
上述目的,通過下述(1)~(20)的本發(fā)明的技術(shù)方案來達成。
(1)一種搭載半導體元件的基板,其特征在于,具有:
基板、
搭載于上述基板的一個面上的半導體元件、
粘接上述基板與上述半導體元件的粘接層、
嵌入有上述半導體元件的第一層、
設置于上述基板的與上述第一層相反一側(cè)的第二層、以及
設置于上述第一層上和上述第二層上的至少一層的表層,
并且,上述粘接層在25℃時的儲能模量是5~1000Mpa;
上述表層在玻璃化轉(zhuǎn)變點Tga[℃]以下按照JIS?C?6481進行檢測的面方向上的熱膨脹系數(shù)為40ppm/℃以下,該玻璃化轉(zhuǎn)變點Tga[℃]是在20℃以上且按照JIS?C?6481進行檢測的上述表層的玻璃化轉(zhuǎn)變點Tga[℃]。
(2)如上述(1)所述的搭載半導體元件的基板,其中,當上述基板的平均厚度為T1[μm]且上述第一層的平均厚度為T2[μm]時,滿足0.5≤T2/T1≤3.0的關(guān)系。
(3)如上述(1)或(2)所述的搭載半導體元件的基板,其中,上述粘接層的平均厚度是5~50μm。
(4)如上述(1)至(3)中的任一項所述的搭載半導體元件的基板,其中,當俯視上述第一層時的上述第一層的面積設為100時,俯視上述半導體元件時的上述半導體元件的面積是6~10;
當上述第一層的體積設為100時,上述半導體元件的體積是2~7。
(5)如上述(1)至(4)中的任一項所述的搭載半導體元件的基板,其中,上述粘接層通過粘接劑構(gòu)成,上述粘接劑由含有(甲基)丙烯酸酯共聚物、環(huán)氧樹脂、酚醛樹脂、無機填充劑的樹脂組合物構(gòu)成。
(6)如上述(1)至(5)中的任一項所述的搭載半導體元件的基板,其中,上述粘接層的玻璃化轉(zhuǎn)變點為0~180℃。
(7)如上述(1)至(6)中的任一項所述的搭載半導體元件的基板,其中,上述第一層在玻璃化轉(zhuǎn)變點Tgb[℃]以下按照JIS?C?6481進行檢測的面方向上的熱膨脹系數(shù)為25~50ppm/℃,該玻璃化轉(zhuǎn)變點Tgb[℃]是在20℃以上且按照JIS?C?6481進行檢測的上述第一層的玻璃化轉(zhuǎn)變點Tgb[℃]。
(8)如上述(1)至(7)中的任一項所述的搭載半導體元件的基板,其中,上述第一層的25℃時的楊氏模量是2~10GPa。
(9)如上述(1)至(8)中的任一項所述的搭載半導體元件的基板,其中,按照JIS?C?6481進行檢測的上述第一層的玻璃化轉(zhuǎn)變點Tgb處于100~250℃的范圍內(nèi)。
(10)如上述(1)至(9)中的任一項所述的搭載半導體元件的基板,其中,當上述表層的25℃時的楊氏模量為X[GPa]、上述第一層的25℃時的楊氏模量為Y[GPa]時,滿足0.5≤X-Y≤13的關(guān)系。
(11)如上述(1)至(10)中的任一項所述的搭載半導體元件的基板,其中,上述表層的25℃時的楊氏模量為4~15Gpa。
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