[發(fā)明專(zhuān)利]多層反射鏡和光刻設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980120621.0
• 申請(qǐng)日: 2009-05-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102047183A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: D·格盧什科夫;V·巴內(nèi)尼;J·H·J·莫爾斯;L·A·斯基梅諾克;N·N·塞拉斯申科
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20;G21K1/06;G03F1/14
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種多層反射鏡，所述多層反射鏡被構(gòu)造且被布置以反射具有在2-8nm范圍內(nèi)的波長(zhǎng)的輻射，所述多層反射鏡具有交替層，所述交替層包括第一層和第二層，所述第一層和第二層是從由Cr和Sc層，Cr和C層，C和B₄C層，U和B₄C層，Th和B₄C層，C和B₉C層，La和B₉C層，U和B₉C層，Th和B₉C層，La和B層，C和B層，U和B層，Th和B層，La化合物和B₄C層，U化合物和B₄C層，Th化合物和B₄C層，La化合物和B₉C層，U化合物和B₉C層，Th化合物和B₉C層，La化合物和B層，U化合物和B層，以及Th化合物和B層構(gòu)成的組中選擇的。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層反射鏡，其中，所述La化合物是從由LaH₂，LaH₃，LaF₃，LaCl₃，LaI₃，La₂O₃，LaSe和LaTe構(gòu)成的組中選出的化合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多層反射鏡，其中，所述U化合物是從由UF₃，UF₄，UF₅，UCl₃，UCl₄，UCl₅，UI₃，UI₄，UO，UO₂，UO₃，U₃O₈，U₂O₅，U₃O₇，U₄O₉，UTe₂，UTe₃，UN，U₂N₃和U₃N₂構(gòu)成的組中選出的化合物。

4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的多層反射鏡，其中，所述Th化合物是從由ThO₂，ThCl₄，ThN，ThF₃，ThF₄，ThI₂，ThI₃，ThI₄，ThH₂，和ThSe₂構(gòu)成的組中選出的化合物。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的多層反射鏡，其中，所述第一層的厚度和所述第二層的厚度的總和是在3-3.5nm的范圍內(nèi)。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的多層反射鏡，其中，所述交替層具有周期厚度，所述周期厚度是第一層或第二層的厚度的約1.7倍至約2.5倍之間。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的多層反射鏡，其中，所述多層反射鏡被構(gòu)造且被布置以反射具有在2.9-3.3nm范圍內(nèi)的波長(zhǎng)的輻射。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的多層反射鏡，其中所述多層反射鏡被構(gòu)造且被布置以反射具有在4.1-4.7nm范圍內(nèi)的波長(zhǎng)的輻射。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的多層反射鏡，其中所述多層反射鏡被構(gòu)造且被布置以反射具有在6.2-6.9nm范圍內(nèi)的波長(zhǎng)的輻射。

10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的多層反射鏡，其中所述多層反射鏡是圖案形成裝置，所述圖案形成裝置被構(gòu)造且被布置以提供在其橫截面中具有圖案的輻射束。

11.一種投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)被配置成將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上，所述投影系統(tǒng)包括根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的多層反射鏡。

12.一種照射系統(tǒng)，所述照射系統(tǒng)被配置成調(diào)節(jié)輻射束，所述照射系統(tǒng)包括根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的多層反射鏡。