[發明專利]處理裝置及處理方法有效
| 申請號: | 200980119052.8 | 申請日: | 2009-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN102046840A | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發明(設計)人: | 外島正人;林赫·卡恩 | 申請(專利權)人: | 奧寶科技LT太陽能有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;B65G49/06;G02F1/13;H01L21/31;H01L21/677;H01L31/04 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
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| 搜索關鍵詞: | 處理 裝置 方法 | ||
技術領域
本發明涉及對基板等工件實施成膜處理或蝕刻處理等處理的處理裝置及處理方法。
背景技術
在太陽能電池用面板或液晶基板的制造工序中,作為在基板(工件)上成膜或蝕刻基板的操作,已有等離子CVD、等離子蝕刻等各種處理(例如參考專利文獻1)。在這些處理工序中,在處理室之間輸送工件(基板),同時進行成膜等處理。為了完全自動化這些處理并提高批量生產效率,人們積極地尋求在各處理工序中縮短間歇時間的方法。
在直線地輸送工件(基板)來進行處理的方式的情況下,進行如下的配置:在進行成膜等處理的處理室的前后設置負載鎖定室(load?lock?chamber),在輸入側的負載鎖定室中,在與處理室分隔的狀態下輸入工件之后,通過真空排氣將其輸入至處理室,在輸出側的負載鎖定室中,將從處理室輸出的工件在與處理室分隔的狀態下在負載鎖定室中放氣后輸出。也就是說,從處理裝置的一側朝向另一側方向輸送工件(基板)來進行處理。
專利文獻1:日本特開2002-270880號公報
專利文獻2:日本特開2000-208587號公報
發明內容
如上所述,在直線輸送工件實施所需處理的處理裝置的情況下,處理室中的處理時間十分長的情況下處理室中的處理時間會限制生產性,但在與負載鎖定室中的工件的輸入、輸出操作所需的時間相比,處理室中的處理時間較短的情況下,工件的輸入、輸出操作限制生產性。
例如,在太陽能電池板的制造工序中,存在在表面形成防反射膜的工序,該成膜所需的時間為20~50秒左右。因此,當對負載鎖定室進行真空排氣的時間或放氣時間比這個處理時間長時,工件的輸入、輸出所需的時間限制生產性。
為了提高產品的生產效率,近年來開始采用使用更大塊的工件來進行處理、或一次處理更多的工件(基板)的方法。在這樣的處理方式的情況下,處理室中的處理時間雖未改變,但由于負載鎖定室變大,所以無法避免負載鎖定室的真空排氣、放氣所要的時間變長。在這種情況下,存在因工件的輸入、輸出操作所需的時間而制約產品的生產效率的問題。
本發明為了解決上述問題而提出,其目的在于提供一種可高效地進行向處理室輸入、輸出工件的操作、且可高效地處理工件的處理裝置及處理方法。
本發明涉及的處理裝置具有設置有第一供給排出口和第二供給排出口的處理室,所述第一供給排出口與所述第二供給排出口分別用于未處理的工件的輸入以及處理后的工件的輸出,所述處理裝置的特征在于,包括:第一輸送機構,經由所述第一供給排出口,進行將未處理的工件輸入至所述處理室的操作和從所述處理室輸出處理后的工件的操作;第二輸送機構,經由所述第二供給排出口,進行將未處理的工件輸入至所述處理室的操作和從所述處理室輸出處理后的工件的操作;交換單元,將通過所述第一輸送機構輸入至所述處理室并進行了處理的工件轉移至所述第二輸送機構,并將通過所述第二輸送機構輸入至所述處理室并進行了處理的工件轉移至第一輸送機構;以及控制部,控制所述第一輸送機構、所述第二輸送機構和所述交換單元,并交替進行所述第一供給排出口和所述第二供給排出口中的工件的供給排出操作。
此外,本發明涉及的處理方法中,使用設置有第一供給排出口與第二供給排出口的處理室對工件進行處理,所述第一供給排出口與所述第二供給排出口分別用于未處理的工件的輸入以及處理后的工件的輸出,所述處理方法的特征在于,所述處理方法配合所述處理室中的工件的處理操作,通過交替進行以下操作來處理工件:從所述第一供給排出口向所述處理室輸入未處理的所述工件并將在所述處理室中處理后的工件從所述第二供給排出口輸出的操作;以及從所述第二供給排出口向所述處理室輸入未處理的工件并將在所述處理室中處理后的工件從所述第一供給排出口輸出的操作。
發明效果
根據本發明涉及的處理裝置及處理方法,能高效地輸送工件,此外,通過交替地從第一供給排出口與第二供給排出口向處理室輸入工件的方法,從而能使各進出口中工件的供給操作所需的時間有富余,即使在處理室中的處理時間較短的情況下也能容易地供給工件加以處理。
附圖說明
圖1是表示本發明涉及的處理裝置的整體結構的說明圖。
圖2是表示本發明涉及的處理裝置的結構例的俯視圖。
圖3是表示支承托盤的承載體的結構的圖2的A-A線截面圖。
圖4是表示承載體與小齒輪的配置關系的圖2的B-B線截面圖。
圖5是向處理室輸入承載體的狀態的俯視圖。
圖6是表示承載體、升降桿、托盤、升降臺的位置關系的圖2的C-C線位置的側視圖。
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C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





