[發明專利]處理裝置及處理方法有效
| 申請號: | 200980119052.8 | 申請日: | 2009-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN102046840A | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發明(設計)人: | 外島正人;林赫·卡恩 | 申請(專利權)人: | 奧寶科技LT太陽能有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;B65G49/06;G02F1/13;H01L21/31;H01L21/677;H01L31/04 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 裝置 方法 | ||
1.一種處理裝置,具有設置有第一供給排出口和第二供給排出口的處理室,所述第一供給排出口與所述第二供給排出口分別用于未處理的工件的輸入以及處理后的工件的輸出,所述處理裝置的特征在于,包括:
第一輸送機構,進行經由所述第一供給排出口將未處理的工件輸入至所述處理室的操作和從所述處理室輸出處理后的工件的操作;
第二輸送機構,進行經由所述第二供給排出口將未處理的工件輸入至所述處理室的操作和從所述處理室輸出處理后的工件的操作;
交換單元,將通過所述第一輸送機構輸入至所述處理室并進行了處理的工件轉移至所述第二輸送機構,并將通過所述第二輸送機構輸入至所述處理室并進行了處理的工件轉移至所述第一輸送機構;以及
控制部,控制所述第一輸送機構、所述第二輸送機構和所述交換單元,并交替進行所述第一供給排出口和所述第二供給排出口中的工件的供給排出操作。
2.根據權利要求1所述的處理裝置,其特征在于,
所述處理裝置包括:第一負載鎖定室,與所述處理室的所述第一供給排出口連通地設置;以及第二負載鎖定室,與所述處理室的所述第二供給排出口連通地設置,
工件經由所述第一負載鎖定室及所述第二負載鎖定室供給至所述處理室和從所述處理室排出。
3.根據權利要求2所述的處理裝置,其特征在于,
所述第一負載鎖定室、所述處理室以及所述第二負載鎖定室串聯配置。
4.根據權利要求2所述的處理裝置,其特征在于,
所述處理裝置包括:第一進出口,用于向所述第一負載鎖定室輸入未處理的工件和從所述第一負載鎖定室輸出處理后的工件;以及第二進出口,用于向所述第二負載鎖定室輸入未處理的工件與從所述第二負載鎖定室排出處理后的工件,
所述第一輸送機構在所述第一進出口與處理室之間輸送工件,所述第二輸送機構在所述第二進出口與處理室之間輸送工件。
5.根據權利要求1所述的處理裝置,其特征在于,
所述第一輸送機構與所述第二輸送機構包括:輸送單元,輸送具有以各自不同的高度支承未處理的工件與處理后的工件的多個支承架的承載體。
6.根據權利要求5所述的處理裝置,其特征在于,
所述處理裝置包括支承所述工件的托盤,所述托盤支承在所述承載體的支承架上而輸送工件。
7.根據權利要求5所述的基板的處理裝置,其特征在于,
所述交換單元包括:
移動單元,使所述工件從工件輸入時支承工件的支承架移動至工件的處理位置;以及
移載單元,使處理后的工件移載至與所述工件輸入時支承工件的支承架不同高度位置的支承架。
8.根據權利要求5所述的處理裝置,其特征在于,
在所述第一進出口與所述第二進出口設置有收容單元和供給單元,所述收容單元將處理后的工件從所述承載體收容至收容部,所述供給單元向所述承載體供給未處理的工件。
9.根據權利要求1所述的處理裝置,其特征在于,
所述第一輸送機構與所述第二輸送機構包括:在不同高度位置輸送工件的下層輸送輥及上層輸送輥;以及驅動機構,所述驅動機構以使所述下層輸送輥及所述上層輸送輥各自的輸送輥輸送工件的輸送方向為相反方向的方式驅動所述下層輸送輥及所述上層輸送輥。
10.根據權利要求9所述的處理裝置,其特征在于,
所述第一輸送機構與所述第二輸送機構包括:配置在所述處理室的下層輸送輥及上層輸送輥;以及朝向所述第一供給排出口與所述第二供給排出口地配置在處理室的外部、并在配置在所述處理室的下層輸送輥及上層輸送輥之間分別轉移工件的下層輸送輥及上層輸送輥。
11.根據權利要求10所述的處理裝置,其特征在于,
所述處理裝置包括:驅動機構,配置在所述處理室中,所述驅動機構配合經由所述第一供給排出口與所述第二供給排出口供給排出工件的操作以交替反轉輸送方向的方式驅動下層輸送輥及上層輸送輥。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





