[發(fā)明專利]用于增加駐留時(shí)間的流動(dòng)反轉(zhuǎn)室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980117784.3 | 申請(qǐng)日: | 2009-03-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102027207A | 公開(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | D·A·吉布森 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 康明斯過濾IP公司 |
| 主分類號(hào): | F01N3/00 | 分類號(hào): | F01N3/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 劉鍇;艾尼瓦爾 |
| 地址: | 美國(guó)明*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 增加 駐留 時(shí)間 流動(dòng) 反轉(zhuǎn) | ||
1.一種系統(tǒng),其包含:
位于廢氣通道中的供料裝置,其用于將還原劑選擇性引入到廢氣流中;
具有廢氣入口的外殼,該入口與所述廢氣通道連通,所述外殼限定了第一流路、第二流路和第三流路,該第一流路在第一方向上引導(dǎo)所述廢氣流,該第二流路在第二方向上引導(dǎo)所述廢氣流,和該第三流路將所述廢氣流引導(dǎo)回到所述第一方向;和
與所述第三流路連通的廢氣出口。
2.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中所述第一流路是由第一管狀元件的第一內(nèi)壁和第二管狀元件的第二內(nèi)壁限定出來的,該第二管狀元件限定出了所述外殼。
3.權(quán)利要求2的系統(tǒng),其中一部分所述第一內(nèi)壁具有大致圓錐的形狀。
4.權(quán)利要求2的系統(tǒng),其中所述第二流路是由所述第二管狀元件的所述內(nèi)壁和所述第一管狀元件的第一外壁限定出來的。
5.權(quán)利要求4的系統(tǒng),其中所述第三流路是由所述第一管狀元件的所述第一外壁和所述第二管狀元件的第二外壁限定出來的。
6.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中所述第二流路具有小于所述第三流路的整體面積。
7.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中所述第一流路、所述第二流路和所述第三流路中的至少一個(gè)涂覆有催化劑。
8.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含與所述外殼相連的包殼,用于存儲(chǔ)多余的還原劑。
9.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含位于所述廢氣入口中的擴(kuò)散器,來誘導(dǎo)所述廢氣流以螺旋模式流過所述第一、第二和第三流路。
10.權(quán)利要求9的系統(tǒng),其中所述擴(kuò)散器包括多個(gè)翅片。
11.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中所述第一流路在所述外殼中的第一雙壁管狀元件中的拐彎處過渡到所述第二流路。
12.權(quán)利要求11的系統(tǒng),其中所述第二流路在所述外殼中的第二雙壁元件的拐彎處過渡到所述第三流路。
13.一種設(shè)備,其包含:
具有第一內(nèi)壁和第一外壁的第一雙壁元件,該元件與廢氣流連通;
具有第二內(nèi)壁和第二外壁的第二雙壁元件,所述第二雙壁元件是相對(duì)于所述第一雙壁元件排列的,以使得所述第二內(nèi)壁位于所述第一內(nèi)壁和所述第一外壁之間,所述第一外壁位于所述第二內(nèi)壁和所述第二外壁之間;和
其中所述第一內(nèi)壁和所述第二內(nèi)壁限定出用于所述廢氣流的第一室,所述第二內(nèi)壁和所述第一外壁限定出用于所述廢氣流的第二室,和所述第一外壁和所述第二外壁限定出用于所述廢氣流的第三室。
14.權(quán)利要求13的設(shè)備,其中所述第一雙壁元件包括拐彎處,來將所述廢氣流以反方向從所述第一室導(dǎo)向所述第二室。
15.權(quán)利要求13的設(shè)備,其中所述第二雙壁元件包括拐彎處,來將所述廢氣流以反方向從所述第二室導(dǎo)向所述第三室。
16.權(quán)利要求13的設(shè)備,其中所述第一內(nèi)壁、所述第二內(nèi)壁、所述第一外壁和所述第二外壁中的至少一個(gè)涂覆有催化劑。
17.權(quán)利要求13的設(shè)備,其中至少一部分所述第一內(nèi)壁具有大致圓錐形狀。
18.權(quán)利要求13的設(shè)備,其中所述第一和第二雙壁元件為管狀。
19.權(quán)利要求13的設(shè)備,其進(jìn)一步包含與所述第二雙壁元件的所述第二外壁相連的包殼。
20.權(quán)利要求13的設(shè)備,其進(jìn)一步包含位于所述第一室的廢氣入口的帽蓋。
21.權(quán)利要求20的設(shè)備,其中所述帽蓋包括多個(gè)翅片,用于誘導(dǎo)所述廢氣流以螺旋模式進(jìn)行流動(dòng)。
22.一種方法,包含:
將還原劑注入到廢氣流中;
將所述廢氣流導(dǎo)入第一流動(dòng)室中;
通過將所述廢氣流導(dǎo)入第二流動(dòng)室中,來反轉(zhuǎn)所述廢氣流的方向;和
通過將所述廢氣流導(dǎo)入到第三流動(dòng)室中,來再次反轉(zhuǎn)所述廢氣流的方向。
23.權(quán)利要求22的方法,其中所述第一流動(dòng)室是由第一雙壁元件的第一內(nèi)壁和第二雙壁元件的第二內(nèi)壁限定出來的。
24.權(quán)利要求23的方法,其中所述第二流動(dòng)室是由所述第二雙壁元件的所述第二內(nèi)壁和所述第一雙壁元件的第一外壁限定出來的。
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