[發明專利]圖案形成方法

無效

• 申請號: 200980117003.0
• 申請日: 2009-05-14
• 公開（公告）號: CN102027415A
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發明（設計）人: 內田博;福島正人;坂田優子
• 申請（專利權）人: 昭和電工株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;B29C59/02;G11B5/84;H01L21/027;B29L11/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 段承恩;田欣

1.一種圖案形成方法，具有以下第1～第3工序，

第1工序：在基材上形成第一紫外線固化性樹脂層；

第2工序：使第一模具的形成有規定圖案的圖案形成面面向所述第一紫外線固化性樹脂層，將所述基材與第一模具壓接；

第3工序：將使紫外光擴散的部件介于所述紫外線固化性樹脂層與紫外光源之間，對通過所述壓接而被轉印了所述第一模具的圖案的第一紫外線固化性樹脂層照射被擴散了的紫外光。

2.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，所述第3工序與所述第2工序同時進行。

3.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，所述第3工序在所述第2工序之后進行。

4.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，包括以下工序：

在厚度為10μm以上1mm以下的樹脂制片上形成第二紫外線固化性樹脂層，

將具有與第一模具的規定圖案凹凸相反的圖案的第二模具壓接在所述第二紫外線固化性樹脂層的表面上，并使所述凹凸相反的圖案與所述第二紫外線固化性樹脂層的表面接觸，從而使所述凹凸相反的圖案轉印至第二紫外線固化性樹脂層上，

從而制造了形成有所述規定圖案的所述第一模具。

5.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，所述第一模具的紫外光的透射率為20％以上。

6.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，通過在所述基材上涂布液狀紫外線固化性樹脂來形成所述第一紫外線固化性樹脂層。

7.根據權利要求4所述的圖案形成方法，其特征在于，通過在所述樹脂制片的表面上涂布液狀紫外線固化性樹脂來形成所述第二紫外線固化性樹脂層。

8.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，作為所述使紫外光擴散的部件，使用擴散板或復眼透鏡。

9.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，所述基材是磁記錄介質。

10.一種離散磁道式磁記錄介質的制造方法，采用了權利要求1所述的圖案形成方法。

11.一種磁記錄再生裝置，裝載了通過權利要求10所述的制造方法制造的離散磁道式磁記錄介質。

12.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，所述基材是在非磁性基板的至少一面上依次形成了磁性層和保護層的基材。

13.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，所述將紫外光擴散的部件是選自石英、玻璃和樹脂中的板或片，并且是選自以下類型的部件：(i)表面形成有微細凹凸，(ii)在基質中分散有折射率與基質不同的微粒，和(iii)表面形成有能夠使光散射的涂膜。

14.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，所述使紫外光擴散的部件是形成了微細凹凸或形成了使光散射的涂膜的第一模具7。