[發明專利]固態攝像元件有效
| 申請號: | 200980115877.2 | 申請日: | 2009-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN102017151A | 公開(公告)日: | 2011-04-13 |
| 發明(設計)人: | 舛岡富士雄;中村廣記 | 申請(專利權)人: | 日本優尼山帝斯電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 鄭小軍;馮志云 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 固態 攝像 元件 | ||
技術領域
本發明涉及一種固態攝像元件。
背景技術
使各像素具有放大功能,且利用掃描電路進行讀取的放大型固態攝像器件,即CMOS(complementary?metal?oxide?semiconductor,互補型金屬氧化物半導體)圖像傳感器已被提出。在CMOS圖像傳感器中,于1像素內形成光電轉換部、放大部、像素選擇部、以及復位(reset)部,除了由光電二極管(photo?diode)所構成的光電轉換部以外,還使用有3個MOS晶體管(例如,專利文獻1)。即,現有技術的CMOS圖像傳感器由4個元件所構成。CMOS傳感器蓄積由光電二極管所構成的光電轉換部所產生的電荷,以放大部放大所蓄積的電荷,且利用像素選擇部來讀取經放大后的電荷。
于圖1顯示現有技術的CMOS圖像傳感器的單位像素。在圖1中,001為光電轉換用光電二極管、006為放大用晶體管、007為復位晶體管、008為選擇晶體管、004為信號線、002為像素選擇時鐘(clock)線、003為復位時鐘線、005為電源線、009為復位用電源線。現有技術的CMOS圖像傳感器的單位像素于平面上,除了光電二極管以外還有3個MOS晶體管,共計具有4個元件。即,要將受光部(光電二極管)的表面積相對于1像素的表面積的比例予以加大是具有難度。
非專利文獻1提出在使用有0.35μm、1多晶硅層、2金屬層CMOS工藝的現有技術的CMOS圖像傳感器中,受光部(光電二極管)相對于1像素的表面積的比例為17%的報告。此外,非專利文獻2提出在使用有0.15μm布線規則(wiring?rule)工藝時,受光部(光電二極管)的表面積相對于1像素的表面積的比例為30%的報告。非專利文獻2還記載當受光部(光電二極管)的表面積相對于1像素的表面積的比例為30%時,形成有集光用的微透鏡(micro?lens)。即,當受光部(光電二極管)的表面積相對于1像素的表面積的比例較低時便需要集光用的微透鏡。
專利文獻1:日本特開2000-244818號公報
非專利文獻1:H.Takahashi,M.Kinoshita,K.Morita,T.Shirai,T.Sato,T.Kimura,H.Yuzurihara,S.Inoue,“A?3.9μm?Pixel?Pitch?VGA?Format10b?Digital?Image?Sensor?with?1.5-Transistor/Pixel(使用1.5晶體管/像素架構的3.9μm像素間距VGA格式10b數字圖像傳感器)”,ISSCC?Dig.Tech.Papers(國際固態電路會議錄),pp.108-109,2004.
非專利文獻2:M.Kasano,Y.Inaba,M.Mori,S.Kasuga,T.Murata,T.Yamaguchi,“A?2.0μm?Pixel?Pitch?MOS?Image?Sensor?with?an?Amorphous?Si?Film?Color?Filter(使用非晶硅薄膜濾色器的2.0μm像素間距MOS圖像傳感器)”,ISSCC?Dig.Tech.Papers(國際固態電路會議錄),pp.348-349,2005.
發明內容
(發明所欲解決的問題)
因此,本發明是以提供受光部的表面積相對于1像素的表面積的比例較大的圖像傳感器為課題。
(解決問題的手段)
本發明的第1實施方式中提供一種固態攝像元件,具備有:信號線,形成于襯底上;島狀半導體,配置于所述信號線上;以及像素選擇線,連接于所述島狀半導體的上部;
所述島狀半導體具備:
第1半導體層,配置于所述島狀半導體的下部,且連接于所述信號線;
第2半導體層,鄰接于所述第1半導體層的上側;
柵極,隔介絕緣膜連接于所述第2半導體層;
電荷蓄積部,連接于所述第2半導體層,且由一旦受光,電荷量便變化的第3半導體層所構成;以及
第4半導體層,鄰接于所述第2半導體層與所述第3半導體層的上側,且連接于所述像素選擇線;
所述像素選擇線通過透明導電膜來形成;
所述柵極的一部分配置于在所述第2半導體層的側壁所形成的凹處的內部。
此外,本發明的優選實施方式中,在所述固態攝像元件中,所述信號線是n+型擴散層,所述第1半導體層是n+型擴散層,所述第2半導體層是p型雜質添加區域,所述第3半導體層是n型擴散層,所述第4半導體層是p+型擴散層。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





