[發明專利]用于壓片機的材料供給裝置和壓片機有效
| 申請號: | 200980114894.4 | 申請日: | 2009-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN102036811A | 公開(公告)日: | 2011-04-27 |
| 發明(設計)人: | S·J·波拉德 | 申請(專利權)人: | 歐伊斯塔曼內斯蒂公司 |
| 主分類號: | B30B11/08 | 分類號: | B30B11/08;B30B15/00;B30B15/30 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 朱立鳴;丁曉峰 |
| 地址: | 英國默*** | 國省代碼: | 英國;GB |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 壓片 材料 供給 裝置 | ||
技術領域
本發明的主題是壓片機,該壓片機具有如權利要求1的前序部分所述的特征。具體地說,本發明涉及壓片機,其中,轉子的基質盤設置在封閉外殼中,此外,噴嘴裝置也設置在封閉外殼中,為清潔目的由該噴射裝置可將諸如水之類的清潔流體噴射到封閉外殼的內側。本發明還涉及用于壓片機的材料供給裝置,提供該材料供給裝置以將待壓片的材料供給至形成在壓片機的基質盤中的基質。最后,本發明涉及用于清潔壓片機的封閉外殼的方法,壓片機的基質盤設置在該封閉外殼中。
背景技術
從現有技術中,已知各種型號的壓片機。基本上,普通的壓片機具有轉子單元,該轉子單元總是由驅動心軸來承載,且與該心軸一起繞垂直對準的旋轉軸線D旋轉。此外,這樣的轉子單元包括基質盤,多個基質或基質支座形成在該基質盤中。設有基質支座,以將單獨構造的基質保持在其中。通常的上部模具支座以及下部模具支座設置在基質盤的上方和下方,多個上部模具和下部模具設置在這些模具支座中,這些模具可沿旋轉軸線D的方向移位,且通過它們的端部配合在基質盤的基質中。上部和下部模具由凸輪隨轉子單元的旋轉致動,該凸輪例如可與壓片機的框架機械地固定連接。然而,這些凸輪還可構造成盤,這些盤可旋轉地安裝在壓片機的框架上。
為了生產料片,通過材料供給裝置將粉狀材料供給至形成在基質盤中的基質,然后,該材料由配合在基質中的上部和下部模塊壓實。通過充分壓實粉狀材料,獲得料片,然后料片由上部或下部模具的相應的脫出運動而從基質中脫出,且由合適的機械裝置從壓片機中導出。
由于待壓片的材料不會100%處理至料片,且此外該材料部分地包含高效的、范圍高達對于壓片機的操作者有害的醫療成分,吸入這些醫療成分會成為問題,因而,當待壓片的材料變換時,即批量變換時,須對壓片機進行仔細清潔。為此,具體地說,應將存在于空氣中的、存在于壓片機的轉子上的以及存在于壓片機的周圍的粉狀材料結合起來,從而該粉狀材料不再會由操作者所吸入。為此,從現有技術中已知具有封閉外殼區域的壓片機,至少轉子的基質盤設置在該封閉外殼中,而通常此外,除了相關聯的模具以及上部和下部模具的致動凸輪以外,上部和下部模具支座也設置在該封閉外殼中。為了將未加工成料片的粉狀材料結合起來,將用于諸如水之類的清潔流體的噴射裝置設置在壓片機的封閉外殼中。在批量變換情形中,在打開封閉外殼之前,噴射清潔流體,該清潔流體沖洗位于空氣中的懸浮顆粒,且此外盡可能遠地沖濕設置在封閉外殼的區域中的表面,以將位于其中的粉狀材料殘余物結合起來。然后,結合在清潔流體中的粉狀材料殘余物可不再到達空氣,現在可打開封閉外殼,例如由操作者進行人工清潔。
通常,此種清潔方法需要大范圍拆解壓片機,這部分地需要顯著的停工時間,產生相關費用。因此,例如通過簡化清潔方法而對于在批量變換過程中的停工時間的任何減小,直接帶來經濟效益。
如上所述,在普通的壓片機中,待壓片的材料通過材料供給裝置引導至基質盤中的基質。通常,這樣的材料供給裝置將在上側的粉狀材料引導至形成在基質盤中的基質。為此,供給開口形成在材料供給裝置中,該供給開口頻繁交疊基質盤中的、彼此前后設置的若干基質,且材料供給裝置通常由密封件所環繞。該密封件將由供給開口環繞的空間區域相對于周圍密封起來。通常在基質盤的上側上方最小距離處,對于該密封件進行導向。或者,還可使用滑動密封件。然而,在兩種類型的構造中,使材料供給裝置和其中包含的密封件相對于轉子單元進行高精度調整是必不可少的,從而避免在基質盤本身上、在密封件上或在材料供給裝置上產生過度磨損。此外,當將材料磨耗帶進在壓片機上生產的料片中時,由于磨損而不可避免的材料磨耗是一個問題。為此,在例如由于清潔目的而已拆解壓片機之后,由現有技術已知構造所構造的材料供給裝置必需重新精確地對準。在此,此種調整過程非常繁復且耗時。然而,在現有技術已知的普通的壓片機中,材料供給裝置的拆解通常是不可避免的,這是由于否則的話,在清潔過程中無法檢測位于材料供給裝置的區域中的、尤其是在內側的供給開口中的以及與基質盤接觸的接觸區域中的粉狀材料殘余物。
發明內容
在此確定的是,本發明具有以下目標:提供一種用于壓片機的材料供給裝置,該材料供給裝置簡化壓片機在批量變換的情形中的清潔。此外,指示這樣一種壓片機:與現有技術已知的壓片機相比,簡化壓片機的清潔。
通過如權利要求1所述的用于壓片機的材料供給裝置以及如權利要求19所述的壓片機來解決該問題。
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