[發(fā)明專利]用于壓片機(jī)的材料供給裝置和壓片機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980114894.4
• 申請日: 2009-04-23
• 公開（公告）號: CN102036811A
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: S·J·波拉德
• 申請（專利權(quán)）人: 歐伊斯塔曼內(nèi)斯蒂公司
• 主分類號: B30B11/08
• 分類號: B30B11/08;B30B15/00;B30B15/30
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 朱立鳴;丁曉峰

1.一種用于具有轉(zhuǎn)子(10)的壓片機(jī)(1)的材料供給裝置(20)，所述轉(zhuǎn)子包括基質(zhì)盤(12)，多個基質(zhì)(14)設(shè)在所述基質(zhì)盤(12)中，其中，設(shè)置所述材料供給裝置(20)以將待壓片的材料供給至形成在所述基質(zhì)盤(12)中的所述基質(zhì)(14)，

其特征在于，

所述材料供給裝置(20)包括裝載件(30)和供給件(40)，其中，

a.所述裝載件(30)相對于所述轉(zhuǎn)子(10)的所述基質(zhì)盤(12)的位置能機(jī)械地固定，以及

b.所述供給件(40)借助至少一個可變安裝件(50)安裝在所述裝載件(30)上，其中，將所述可變安裝件(50)設(shè)置成使所述供給件(40)相對于所述轉(zhuǎn)子(10)的距離自動地設(shè)定至預(yù)設(shè)值。

2.如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述可變安裝件(50)包括壓簧(54)。

3.如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述供給件(40)具有用于所述待壓片的材料的供給開口(44)，且至少部分地包圍所述供給開口(44)的密封件(46)設(shè)置在所述供給件(40)和所述基質(zhì)盤(12)之間。

4.如權(quán)利要求3所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述密封件(46)能利用所限定的預(yù)加壓力進(jìn)行作用，抵靠于所述基質(zhì)盤(12)的表面。

5.如權(quán)利要求2和4所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述壓簧(54)抵消所述密封件(46)的預(yù)加壓力。

6.如權(quán)利要求3所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述密封件(46)由金屬材料或聚合物材料構(gòu)成。

7.如權(quán)利要求4所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述預(yù)加壓力借助所述密封件(46)的彈性變形來產(chǎn)生。

8.如權(quán)利要求4所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述預(yù)加壓力借助單獨(dú)構(gòu)造的彈簧元件來產(chǎn)生。

9.如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述可變安裝件(50)包括氣動致動的提升缸體(52)。

10.如權(quán)利要求2和6所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述壓簧(54)抵消所述提升缸體(52)的氣動致動的運(yùn)動。

11.如權(quán)利要求2所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述壓簧(54)是波紋盤。

12.如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，設(shè)有調(diào)整裝置(32)，所述調(diào)整裝置使所述裝載件(30)的位置能至少沿垂直方向設(shè)定。

13.如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述調(diào)整裝置(32)構(gòu)造成微調(diào)螺旋。

14.如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，設(shè)有固定單元(42)，所述供給件(40)可借助所述固定單元機(jī)械地固定在所述裝載件(30)上。

15.如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，設(shè)有垂直調(diào)整裝置，可借助所述垂直調(diào)整裝置機(jī)械地調(diào)整所述供給件(40)在所述裝載件(30)上的垂直位置。

16.如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，設(shè)有至少三個可變安裝件(50)，所述至少三個可變安裝件生成一個平面。

17.如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，所述供給件(40)可呈現(xiàn)操作位置和清潔位置。

18.如權(quán)利要求9所述的材料供給裝置(20)，其特征在于，通過所述提升缸體(52)施加的壓力，所述供給件(40)可從所述操作位置變換到所述清潔位置。

19.一種壓片機(jī)(1)，所述壓片機(jī)具有轉(zhuǎn)子(10)和如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置(20)，所述轉(zhuǎn)子包括基質(zhì)盤(12)，多個基質(zhì)(14)設(shè)在所述基質(zhì)盤(12)中。

20.如權(quán)利要求19所述的壓片機(jī)，其特征在于，設(shè)有密封外殼(60)，至少所述基質(zhì)盤(12)、所述材料供給裝置(20)的所述供給件(40)以及清潔流體的噴射裝置設(shè)置在所述密封外殼(60)中。

21.如權(quán)利要求20所述的壓片機(jī)，其特征在于，所述材料供給裝置根據(jù)權(quán)利要求18來構(gòu)造，在所述操作位置，所述供給件(40)的距離呈第一值(d1)，在所述清潔位置，所述供給件(40)的距離呈第二值(d2)。