[發明專利]用于支撐光學元件的設備和制造該設備的方法無效
| 申請號: | 200980113206.2 | 申請日: | 2009-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN102007453A | 公開(公告)日: | 2011-04-06 |
| 發明(設計)人: | W·L·法恩斯沃思;S·斯瑪尼 | 申請(專利權)人: | ASML控股股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 支撐 光學 元件 設備 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種光刻系統,并且更具體地,涉及在光刻系統中支撐光學元件。
背景技術
光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底或襯底的一部分上的機器。例如,可以將光刻設備用在平板顯示器、集成電路(IC)以及其他包含精細結構的裝置的制造中。在傳統的設備中,通常稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置可以用于生成與平板顯示器(或其他裝置)的單層對應的電路圖案。通過成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(例如,光致抗蝕劑)的層可以將該圖案轉移到整個襯底(例如玻璃板)或襯底的部分上。
一旦圖案形成裝置具有圖案化的輸入照射,通過一個或更多個透鏡可以將最終的照射投影到襯底上。所述一個或更多個透鏡的位移和/或變形會引起圖案化襯底中的誤差。例如,支撐透鏡的設備中的振動或擺動會引起它們位移,這導致將要被轉移到襯底上的圖案中的漂移或其他誤差。而且,在光刻過程中產生的熱會導致透鏡的變形,這引起要被轉移到襯底上的圖案的變形。
發明內容
因此,期望一種支撐設備,其基本上減小透鏡的變形和位移以防止在印刷的圖案中的誤差。
在本發明的第一實施例中,提供一種用于支撐光學元件的設備,其包括透鏡單元和多個指狀物,多個指狀物耦合到所述透鏡單元。每個指狀物包括配置成在所述光學元件被安裝到其中時耦合到所述光學元件的基部,在各自的第一端耦合至基部并且從所述基部以大約75到165度之間的發散角延伸的第一和第二彎曲部,和配置成與所述第一和第二彎曲部的各自的第二端耦合在一起的安裝部件。所述安裝部件由此耦合所述基部和所述透鏡單元。
本發明的另一實施例提供一種形成用于支撐光學元件的設備的方法,包括形成透鏡單元和形成多個指狀物。形成所述多個指狀物的步驟包括:形成基部,所述基部配置成在所述光學元件被安裝到其中時耦合到所述光學元件;形成第一和第二彎曲部,所述第一和第二彎曲部在各自的第一端耦合至基部并且從所述基部以大約75到165度之間的發散角延伸;和形成安裝部件,所述安裝部件配置成與所述第一和第二彎曲部的各自的第二端耦合在一起。所述方法還包括將所述安裝部件耦合到所述透鏡單元。
本發明更多的實施例、特征以及優點,以及本發明的不同實施例的結構和操作將在下面參照附圖詳細地描述。
附圖說明
此處附圖并入說明書并作為說明書的一部分,示出本發明的一個或更多個實施例,并且與說明書一起用來解釋本發明的原理,并且能夠讓本領域技術人員使用本發明。
圖1和2示出光刻設備。
圖3示出將圖案轉移到襯底的模式。
圖4示出示例性支撐設備。
圖5示出示例性指狀物的俯視圖。
圖6示出示例性激勵能量的功率譜密度。
圖7示出示例性指狀物由于給定的基部加速帶來的峰(值)位移作為頻率的函數的曲線。
圖8A和8B示出示例性運動支撐結構的三維示意圖。
圖9示出切線薄片透鏡單元的示意平面圖。
圖10示出根據本發明的一個實施例的用于支撐透鏡的設備的局部圖。
圖11示出根據本發明的一個實施例的用于支撐透鏡的設備。
圖12示出根據本發明的一個實施例的方法的流程圖。
圖13示出根據本發明的一個實施例的可以在圖12的流程期間執行的示例步驟。
圖14A-14C示出根據本發明的一個實施例的具有示例性規格的兩腳架指狀物的示例性實施方式。
下面將參照附圖描述本發明。在附圖中,相同的附圖標記表示相同或功能相似的部件。此外,附圖標記的最左邊的數字表示附圖標記首先出現的附圖。
具體實施方式
本說明書公開一個或更多個實施例,其并入本發明的特征。所公開的實施例僅給出本發明的示例。本發明的范圍不限于所公開的實施例。本發明通過未決的權利要求進行限定。
所述的實施例和在說明書提到的“一個實施例”、“實施例”、“示例性實施例”等表示所述的實施例可以包括特定特征、結構或特性,但是每個實施例不必必需包括所述特定特征、結構或特性。而且,這些段落不必指的是同一個實施例。此外,當特定特征、結構或特性與實施例結合進行描述時,應該理解,無論是否明確描述,實現將這些特征、結構或特性與其他實施例的結合是在本領域技術人員所知的知識范圍內的。
圖1示意地示出了一種光刻設備1。所述光刻設備包括:照射系統IL、圖案形成裝置PD、襯底臺WT以及投影系統PS。照射系統(照射器)IL配置用于調節輻射束B(例如,紫外(UV)輻射)。在圖1中的光刻設備中可以采用用于支撐本發明的光學元件的設備。
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