[發明專利]用于支撐光學元件的設備和制造該設備的方法

無效

• 申請號: 200980113206.2
• 申請日: 2009-04-15
• 公開（公告）號: CN102007453A
• 公開（公告）日: 2011-04-06
• 發明（設計）人: W·L·法恩斯沃思;S·斯瑪尼
• 申請（專利權）人: ASML控股股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種用于支撐光學元件的設備，包括：

透鏡單元；和

多個指狀物，耦合到所述透鏡單元，其中每個指狀物包括：

基部，配置成在所述光學元件被安裝到其中時耦合到所述光學元件，

第一和第二彎曲部，其在各自的第一端耦合至基部并且從所述基部以大約75到165度之間的發散角延伸，和

安裝部件，配置成將所述第一和第二彎曲部的各自的第二端耦合在一起，其中所述安裝部件由此耦合所述基部至所述透鏡單元。

2.如權利要求1所述的設備，其中，每個指狀物配置成當把光學元件安裝到其中時在整個操作溫度范圍上相對于所述光學元件沿徑向方向是有柔量的。

3.如權利要求1或2所述的設備，其中，所述光學元件是透鏡，并且其中每個指狀物配置成使得當把所述光學元件安裝到其中時所述基部和所述光學元件之間的第一X-Y共振模在高于大約1000Hz的頻率處。

4.如權利要求1、2或3所述的設備，其中，所述多個指狀物包括至少7個指狀物。

5.如權利要求1-4中任一項所述的設備，其中，所述發散角是大約120度。

6.如權利要求1-5中任一項所述的設備，其中，所述基部包括凹陷的墊部，所述墊部配置成容納接合材料。

7.如權利要求1-6中任一項所述的設備，其中，每個指狀物包括金屬，例如不銹鋼。

8.如權利要求1-7中任一項所述的設備，其中，所述第一和第二彎曲部與所述基部和所述安裝件形成一體。

9.一種形成用于支撐光學元件的設備的方法，包括步驟：

形成透鏡單元；

形成多個指狀物，包括：

形成基部，所述基部配置成在所述光學元件安裝到其中時耦合到所述光學元件，

形成第一和第二彎曲部，所述第一和第二彎曲部在各自的第一端耦合至基部并且從所述基部以大約75到165度之間的發散角延伸，和

形成安裝部件，所述安裝部件配置成將所述第一和第二彎曲部的各自的第二端耦合在一起；和

將所述安裝部件耦合到所述透鏡單元。

10.如權利要求9所述的方法，其中，形成所述第一和第二彎曲部的步驟包括：形成大約120度的發散角。

11.如權利要求9或10所述的方法，其中，將所述指狀物耦合至所述透鏡單元的步驟包括：將所述安裝部件釬焊至所述透鏡單元。

12.如權利要求9、10或11所述的方法，其中，形成所述多個指狀物的步驟包括：

形成所述多個指狀物，使得所述多個指狀物中的每個指狀物在把光學元件安裝到其中時在整個操作溫度范圍上沿所述光學元件的徑向方向是有柔量的。

13.如權利要求9-12中任一項所述的方法，其中，所述光學元件是透鏡，并且形成所述多個指狀物的步驟包括：

形成所述多個指狀物，使得在把所述光學元件安裝到其中時，在高于大約1000Hz的頻率處，所述多個指狀物中的每個指狀物具有在所述基部和所述光學元件之間的第一X-Y共振模。

14.如權利要求9-13中任一項所述的方法，其中，形成所述多個指狀物的步驟包括：

形成至少7個指狀物。

15.如權利要求9-14中任一項所述的方法，其中，形成所述多個指狀物的步驟包括：

使用導線放電加工工藝去除材料。

16.如權利要求9-15中任一項所述的方法，其中，形成所述多個指狀物的步驟包括：

形成凹陷的墊部，所述凹陷的墊部配置成容納接合材料。

17.一種用于將圖像投影到襯底上的光刻設備，所述光刻設備包括光學系統，所述光學系統包括根據權利要求1-8中任一項所述的用于支撐光學元件的設備。

18.如權利要求17所述的光刻設備，其中，所述光學系統是布置成將圖案形成裝置的圖像投影到所述襯底上的投影光學系統。

19.如權利要求17所述的光刻設備，其中，所述光學系統是布置成調節并引導輻射束到圖案形成裝置上的照射光學系統。