[發明專利]炊具

有效

• 申請號: 200980110992.0
• 申請日: 2009-09-22
• 公開（公告）號: CN101981383A
• 公開（公告）日: 2011-02-23
• 發明（設計）人: 李映佑;金亮卿;全容奭;梁在卿
• 申請（專利權）人: LG電子株式會社
• 主分類號: F24C7/00
• 分類號: F24C7/00
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 鄭小軍;馮志云

技術領域

本發明涉及一種炊具，更具體地涉及一種能容易地清潔其烹飪室的炊具。

背景技術

炊具是利用電或煤氣烹飪食物的家用器具。灶具通常包括容納及烹飪食物的烹飪室。容納在烹飪室中的食物由設置在炊具中的加熱源進行加熱與烹飪。

發明內容

技術問題

然而，傳統的烹飪室不能被容易地進行清潔。

技術方案

非常需要一種與傳統的炊具相比其烹飪室能夠被更容易進行清潔的炊具。

在一個實施例中，炊具包括具有烹飪室的腔體。門選擇性地打開及關閉烹飪室，并且加熱源被設置成用于提供對烹飪室內部的食物進行烹飪的熱量。在烹飪室的內表面上設置搪瓷涂層(enamel?coating)，該搪瓷涂層包括磷酸鹽基成分。

在另一實施例中，炊具包括具有烹飪室的腔體。門選擇性地打開及關閉烹飪室，并且加熱源被設置成用于提供對烹飪室內部的食物進行烹飪的熱量。在烹飪室的內表面上設置搪瓷涂層，該搪瓷涂層包括五氧化二磷(P₂O₅)成分。此外，清潔設備將清潔水供給到烹飪室內部，控制單元控制加熱源和清潔設備的操作。

在另一實施例中，炊具包括具有烹飪室的腔體。門選擇性地打開及關閉烹飪室。加熱源提供對烹飪室內部的食物進行烹飪的熱量。在烹飪室的內表面上設置搪瓷涂層，該搪瓷涂層包括五氧化二磷(P₂O₅)成分。蒸汽發生設備產生供給到烹飪室內部的蒸汽，控制單元控制加熱源和清潔設備的操作。

附圖說明

圖1是示出根據本發明的炊具的第一實施例的立體圖；

圖2是根據本發明的第一實施例的示意圖；

圖3是根據本發明的炊具的第二實施例的示意圖；

圖4是根據本發明的炊具的第三實施例的示意圖；

圖5是第三實施例中示出的高溫清潔水供給單元的豎向剖視圖；

圖6是根據本發明的炊具的第四實施例的示意圖；

圖7和圖8是示出根據本發明的炊具的第五實施例的主要部件的豎向剖視圖；以及

圖9是根據本發明的炊具的第六實施例的示意圖。

具體實施方式

實現本發明的最佳模式

將參考附圖，更詳細地描述根據本發明的炊具的第一實施例。

圖1是示出根據本發明的炊具的第一實施例的立體圖，圖2是根據本發明的第一實施例的示意圖。

參考圖1和圖2，在炊具1的腔體10內部設置烹飪室11。烹飪室11是烹飪食物的場所。例如，烹飪室11可形成為六面體結構，其中利用門14來打開該六面體結構的前表面。

烹飪室11能夠通過圍繞定中于炊具1下端的旋轉軸線拉動或推動門14，由門14選擇性地打開及關閉。

控制器15設置在腔體10的與炊具1的上部相對應的前部上端。控制器15被設置成包括輸入單元、輸出單元以及控制單元，其中，輸入單元接收操作炊具的操作信號，輸出單元輸出關于炊具的操作情況的信息，控制單元控制炊具的操作。在此，控制單元尤其是控制稍后將要描述的加熱源和/或清潔設備的操作。

腔體10中設有一個或多個加熱源。加熱源提供用于對炊具1的烹飪室11內部的食物進行烹飪的熱量。在本實施例中，上加熱器17和下加熱器18安裝在烹飪室11的上部和下部。上加熱器17和下加熱器18提供烹飪室11中的輻射熱。在該實施例中，對流設備19安裝在烹飪室11的后表面上。對流設備19被設置成包括對流加熱器(未示出)和對流風扇(未示出)，并在利用對流風扇使由對流加熱器加熱的空氣在烹飪室11內循環時，提供烹飪室11中的輻射熱。在可替代的實施例中，也可在烹飪室11中設置單獨的風扇，該風扇吹送由上加熱器17和下加熱器18中的任一者加熱的空氣；或者也可在烹飪室11的后表面上形成單獨的開口部，該開口部將對流加熱器的熱量輻射到烹飪室11的內部。

參考圖2的放大部分，在烹飪室11的內部設置搪瓷涂層12。搪瓷涂層12可包含磷酸鹽基成分，如五氧化二磷(P₂O₅)。包括五氧化二磷的磷酸鹽基成分改進了搪瓷涂層12的抗腐蝕性、防銹性、耐高溫氧化性等。因此，在烹飪食物的過程中，容易去除附著于烹飪室11的使用搪瓷涂層12的內表面上的食物殘渣。例如，搪瓷涂層12可包含30％或更少的五氧化二磷，優選地，包含20％或更少的五氧化二磷。