[發明專利]炊具有效
| 申請號: | 200980110992.0 | 申請日: | 2009-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN101981383A | 公開(公告)日: | 2011-02-23 |
| 發明(設計)人: | 李映佑;金亮卿;全容奭;梁在卿 | 申請(專利權)人: | LG電子株式會社 |
| 主分類號: | F24C7/00 | 分類號: | F24C7/00 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 鄭小軍;馮志云 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 炊具 | ||
1.一種炊具,包括:
具有烹飪室的腔體;
門,其選擇性地打開及關閉所述烹飪室;
加熱源,其提供用于對所述烹飪室內部的食物進行烹飪的熱量;以及
搪瓷涂層,其被設置在所述烹飪室的內表面上并包括磷酸鹽基成分。
2.根據權利要求1所述的炊具,其中所述搪瓷涂層包括五氧化二磷(P2O5)。
3.根據權利要求1所述的炊具,其中所述搪瓷涂層包括20%的磷酸鹽基成分。
4.一種炊具,包括:
具有烹飪室的腔體;
門,其選擇性地打開及關閉所述烹飪室;
加熱源,其提供用于對所述烹飪室內部的食物進行烹飪的熱量;
搪瓷涂層,其被設置在所述烹飪室的內表面上并包括五氧化二磷(P2O5)成分;
清潔設備,其將清潔水供給到所述烹飪室的內部;以及
控制單元,其控制所述加熱源和所述清潔設備的操作。
5.根據權利要求4所述的炊具,其中所述清潔設備包括:
儲存清潔水的水箱;以及
供給單元,其將儲存在所述水箱中的清潔水供給到所述烹飪室的內部。
6.根據權利要求5所述的炊具,其中被供給到所述烹飪室內部的清潔水由用于烹飪食物的所述加熱源或單獨的加熱源進行加熱。
7.根據權利要求4所述的炊具,其中所述清潔設備包括:
供給單元,其將清潔水供給到所述烹飪室的內部;以及
貯槽,其使被供給到所述烹飪室內部的清潔水聚集。
8.根據權利要求7所述的炊具,其中被供給到所述烹飪室內部的清潔水由所述加熱源進行加熱。
9.根據權利要求7所述的炊具,其中被供給到所述烹飪室中的清潔水由單獨的加熱源進行加熱。
10.根據權利要求7所述的炊具,其中聚集在所述貯槽中的清潔水由清潔設備再循環到所述烹飪室的內部,或者被排出到所述烹飪室的外部。
11.根據權利要求7所述的炊具,還包括:
輸出單元,其在用于清潔所述烹飪室內部的清潔設備的操作完成時輸出報告信號。
12.根據權利要求7所述的炊具,還包括:
輸出單元,其在用于清潔所述烹飪室內部的所述清潔設備的操作完成之后度過預定時間時輸出報告信號。
13.根據權利要求7所述的炊具,其中所述供給單元選擇性地暴露至所述烹飪室的內部。
14.根據權利要求7所述的炊具,其中所述供給單元在將清潔水供給到所述烹飪室內部的同時進行旋轉。
15.根據權利要求14所述的炊具,其中所述供給單元在流出所述供給單元的清潔水的推進下進行旋轉。
16.一種炊具,包括:
具有烹飪室的腔體;
門,其選擇性地打開及關閉所述烹飪室;
加熱源,其提供用于對所述烹飪室內部的食物進行烹飪的熱量;以及
搪瓷涂層,其被設置在所述烹飪室的內表面上并包括五氧化二磷(P2O5)成分;
蒸汽發生設備,其產生被供給到所述烹飪室內部的蒸汽;以及
控制單元,其控制所述加熱源和所述蒸汽發生設備的操作。
17.根據權利要求16所述的炊具,其中所述蒸汽發生設備包括:
儲存水的水箱;以及
蒸汽發生單元,其通過加熱由所述水箱供給的水產生蒸汽。
18.根據權利要求17所述的炊具,其中所述水箱可拆卸地安裝在所述腔體的一側。
19.根據權利要求16所述的炊具,還包括:
輸出單元,其在用于清潔所述烹飪室內部的蒸汽發生設備的操作完成時輸出報告信號。
20.根據權利要求16所述的炊具,還包括:
輸出單元,其在用于清潔所述烹飪室內部的蒸汽發生設備的操作完成之后度過預定時間時輸出報告信號。
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