[發明專利]控制裝置以及控制方法

無效

• 申請號: 200980109564.6
• 申請日: 2009-03-02
• 公開（公告）號: CN101978488A
• 公開（公告）日: 2011-02-16
• 發明（設計）人: 大脅良介
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/68
• 分類號: H01L21/68;H01L21/027
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258
• 代理人: 柳春雷;南霆

技術領域

本發明涉及用于控制例如將半導體晶片等基板交接到處理單元的載置臺上的基板運送裝置的交接位置的調整的控制裝置以及控制方法。

背景技術

例如半導體晶片的制造工序中的照相平板印刷工序通常使用涂敷顯影處理裝置進行。涂敷顯影處理裝置例如包括：運入運出部，用于相對外部運入基板或運出基板；處理部，配置有進行抗蝕劑涂敷處理、顯影處理以及熱處理等的各種處理的多個處理單元；以及接口部，用于在該處理部與作為其他的裝置的曝光裝置之間進行基板的交接的接口部。并且，涂敷顯影處理裝置例如具有在上述各部間和處理單元間運送基板的多個基板運送裝置。

基板運送裝置具有保持基板的臂。在基板運送裝置中，當在處理單元內交接基板時，為了避免半導體晶片產生錯位，臂的位置調整變得尤為重要。以往，實際在運送半導體晶片之前，計算與目標晶片交接位置的位置偏移量，來基于該計算結果對基板運送裝置進行基板的交接位置的調整操作。晶片的交接位置的調整操作按照各處理單元來實際進行對基板運送裝置進行驅動(例如專利文獻1、專利文獻2)。

專利文獻1：日本專利文獻特開2002-313872號公報(0050段)；

專利文獻2：日本專利文獻特開2005-19963號公報(0035～0052段)。

發明內容

但是，在具有如涂敷顯影處理裝置那樣的多個處理單元的處理裝置中，如果按照各個處理單元實際逐一驅動基板運送裝置來進行位置調整操作，則存在需要較長時間并且操作效率低的問題。并且，在基板運送裝置具有多個臂的情況下，由于按照每個臂而進行位置調整操作而需要更長時間。

鑒于以上情況，本發明的目的在于提供一種大幅度削減位置調整操作所需要的時間、并提高操作效率的控制裝置以及控制方法。

當解決以上問題時，本發明的主要觀點涉及的控制裝置，對基板處理裝置中的運送裝置的交接位置的調整進行控制，所述基板處理裝置包括對基板進行預定的處理的多個處理單元以及能夠進行驅動以保持并運送所述基板來向所述各個處理單元進行交接的運送單元，所述控制裝置包括：存儲單元，存儲表示從所述各個處理單元中選擇的一個基準處理單元和其他非基準處理單元的相對位置的第一信息；第一計算單元，計算用于修正位置偏移的第一修正值，所述位置偏移是當在被所述運送裝置中保持模仿所述基板的樣板的狀態下驅動該運送裝置、所述運送裝置的所述樣板針對所述基準處理單元的交接位置和預定的第一交接目標位置之間的位置偏移；以及第二計算單元，基于所述第一修正值和所述第一位置信息，計算用于修正所述運送裝置的所述樣板針對所述非基準處理單元的交接位置和預定的第二交接目標位置之間的位置偏移的第二修正值。

這里所謂基板處理裝置例如為涂敷顯影裝置、成膜裝置、蝕刻裝置、清洗裝置等。另外，所述運送裝置例如叫做運送臂及其驅動機構。根據該結構，通過計算第一修正值能修正基準單元中的位置偏移，并且使用該第一修正值、以及表示基準處理單元和非基準處理單元的相對位置的第一位置信息計算第二修正值，由此能夠不對非基準處理單元驅動運送裝置，修正非基準處理單元的位置偏移。因此，與實際逐一驅動非基準處理單元的位置偏移來進行各位置修正的情況相比，能夠大幅縮短位置偏移修正所需要的時間，并提高基板處理裝置的處理效率。

另外，所述運送裝置具有用于保持所述基板的多個臂，所述存儲單元存儲表示所述各個臂間的相對位置的第二位置信息，所述第一計算單元按照所述每個臂計算所述第一修正值，所述第二計算單元基于關于所述各個臂的所述各個第一修正值、所述第一位置信息以及所述第二位置信息計算針對所述非基準處理單元的所述運送裝置的各個臂的所述第二修正值。

由此，即使運送裝置具有多個臂的情況下，通過使用對于基準處理單元計算出的各個臂的第一修正值和表示各臂間的相對位置的第二位置信息，能夠不對非基準處理單元驅動各個臂計算各個臂的第二修正值，并能夠大幅縮短各個處理單元中的各個臂的位置偏移修正所需要的時間。

另外，還包括操作輸入部，輸入用于從所述各個處理單元中選擇所述基準處理單元的第一用戶操作以及用于改變所述被選擇的基準處理單元的第二用戶操作。

由此，即使在被選擇的基準處理單元中產生某些故障的情況下，通過改變基準處理單元也能順利地進行位置偏移修正。