[發明專利]具有改進的耐磨損性的負性工作可成像元件有效
| 申請號: | 200980109009.3 | 申請日: | 2009-02-12 |
| 公開(公告)號: | CN101971095A | 公開(公告)日: | 2011-02-09 |
| 發明(設計)人: | G·豪克;C·薩瓦里亞-豪克;U·德瓦斯;H·鮑曼;B·施特勒默爾;C·辛普森 | 申請(專利權)人: | 伊斯曼柯達公司 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/075 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 趙蘇林;林毅斌 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 改進 耐磨 工作 成像 元件 | ||
發明領域
本發明涉及具有改進的耐磨損和耐刮擦性的負性工作可成像元件,和將這些可成像元件成像和顯影以特別提供平版印刷板的方法。
發明背景
在常規或″濕″平版印刷中,在親水性表面上產生油墨接受區(稱為圖像區域)。當這種表面用水潤濕并施用油墨時,該親水區保持水并排斥油墨,油墨接受區接受油墨并排斥水。然后將油墨轉移到其上將要復制圖像的材料的表面上。在有些情況下,可以首先將油墨轉移到中間轉印布上,它進而用于將油墨轉移到其上將要復制圖像的材料的表面上。
可用于制備平版印刷板的可成像元件通常包括施加在基材的親水性表面上的可成像層。這種可成像層包括一種或多種可以分散在適合的粘結劑中的輻射敏感性組分。或者,所述輻射敏感性組分也可以是粘結劑材料。在成像之后,通過適合的顯影劑除去所述可成像層的成像區或未成像區,從而使基材的基礎性親水性表面露出。如果除去成像區域,則元件被認為是正性工作的。相反地,如果除去未成像區域,則元件被認為是負性工作的。在每種情況下,可成像層的保留的區域(即,圖像面積)是油墨接受性的,而通過顯影過程露出的親水表面的區域接受水和水溶液(通常是潤版溶液)并排斥油墨。
直接數字成像在印刷工業中已變得越來越重要。已開發出與紅外激光器一起使用的用于制備平版印刷板的可成像元件。熱可成像的負性工作可成像元件例如描述在WO?2004/074930(Baumann等人)和WO?2007/090550(Strehmel等人)中。
已經出于各種原因將顆粒狀材料引入到平版印刷板前體中。例如,已經將有機聚合物顆粒引入到此類元件中以便改進印刷機可顯影性,如美國專利號6,352,811(Patel等人)所述。金屬顆粒的納米糊劑針對美國專利號7,217,502(Ray等人)中的可成像元件進行了描述。核-殼型顆粒已經包括在成像層中,以致它們在成像時聚結,例如EP1,057,622(Fukino等)中所述。
還已知在各種可成像元件中使用二氧化硅顆粒以改變表面性能或增稠已涂覆的層。例如,EP1,096,313A1(Hanabata)描述了在UV敏感性光致抗蝕劑中使用用表面酚基改性的二氧化硅顆粒,該改性顆粒傾向于附聚并在涂料配方中提供增稠。然而,此類酚基傾向于抑制自由基光致聚合。
待解決的問題
可成像元件例如平版印刷板前體通常在以獨立元件之間具有隔離紙的多重單元或堆疊體形式制造后包裝和裝運。在可成像元件的制造、包裝、運輸和后續使用期間,最外層可能由于人或機器處理而被擦傷或磨損。對此類元件的外層的損壞(例如由于刮擦)可能在所得圖像中產生″孔穴″或其它缺陷,這是重大的問題。
負性工作可成像元件中的另一個問題是可成像層的粘性,這歸因于反應性單體和低聚物的高濃度。這種問題是制造、儲存、運輸和用戶最終應用中的關注,導致不希望的印刷機面缺陷(壓痕)。當此類可成像元件存儲在熱和潮濕條件中時該問題是尤其明顯的,并且可能產生輥缺陷以及被隔離紙壓入外表面的不許可的圖案。這些缺陷要求以相當大成本和低效率刮擦可成像元件。
此外,用由含水溶劑涂覆的隔氧面涂層制備一些負性工作可成像元件。可能在該面涂配方和基礎可成像層配方之間發生摻混并且可成像層的一些親水性組分可能遷移到面涂層中,導致元件敏感性和打印性能降低。
仍需要改進負性工作可成像元件的耐磨性和降低粘性以減少各種缺陷,而不會有所需成像、顯影或打印性能的任何損失。
發明概述
本發明提供負性工作可成像元件,包括其上具有可成像層的基材,該可成像層包含:
可自由基聚合組分,
在暴露于成像輻射中時提供自由基的引發劑組合物,
輻射吸收性化合物,
聚合物粘結劑,和
表面改性的二氧化硅顆粒,所述顆粒按大約1-大約40重量%的量存在,具有大約1-大約500nm的平均粒度,具有表面羥基,并具有大約0.5-大約15重量%的源自含1-30個碳原子的表面疏水性基團的碳含量。
在一些實施方案中,本發明的負性工作、紅外輻射敏感性平版印刷板前體包括含鋁基材,該含鋁基材在其上具有可成像層和任選的布置在該可成像層上的面涂層,該可成像層包含:
可自由基聚合組分,
在暴露到成像紅外輻射中時提供自由基的引發劑組合物,
輻射吸收性化合物,
聚合物粘結劑,和
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