[發明專利]具有改進的耐磨損性的負性工作可成像元件

有效

• 申請號: 200980109009.3
• 申請日: 2009-02-12
• 公開（公告）號: CN101971095A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: G·豪克;C·薩瓦里亞-豪克;U·德瓦斯;H·鮑曼;B·施特勒默爾;C·辛普森
• 申請（專利權）人: 伊斯曼柯達公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/075
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 趙蘇林;林毅斌

1.一種負性工作可成像元件，包括其上具有可成像層的基材，該可成像層包含：

可自由基聚合組分，

在暴露于成像輻射中時提供自由基的引發劑組合物，

輻射吸收性化合物，

聚合物粘結劑，和

表面改性的二氧化硅顆粒，所述顆粒按大約1-大約40重量％的量存在，具有大約1-大約500nm的平均粒度，具有表面羥基，并具有大約0.5-大約15重量％的源自含1-30個碳原子的表面疏水性基團的碳含量。

2.權利要求1的元件，其中所述表面改性的二氧化硅顆粒具有大約50-大約400m²/g的BET表面。

3.權利要求1的元件，其中所述表面疏水性基團包括含1-30個碳原子的表面烷基或芳族環中含6或10個碳原子的表面芳基。

4.權利要求1的元件，其中所述表面改性的二氧化硅顆粒是熱解法二氧化硅顆粒，它們是無定形的并且是通過在有機溶劑和穩定性表面活性劑存在下研磨制備的。

5.權利要求1的元件，其中所述表面改性的二氧化硅顆粒按大約5-大約20重量％的量存在于所述可成像層中。

6.權利要求1的元件，其中所述表面改性的二氧化硅顆粒具有大約100-大約300m²/g的BET表面積，大約0.5-大約10重量％的碳含量和大約2-大約80nm的平均粒度。

7.權利要求1的元件，其中所述表面疏水性基團基本上由含1-18個碳原子的表面烷基，或苯基構成。

8.權利要求1的元件，還包括布置在所述可成像層上的面涂層。

9.權利要求1的元件，其中所述輻射吸收性化合物是按基于它布置于其中的層的總干重計大約0.5-大約30％的量存在的紅外輻射吸收性化合物。

10.權利要求1的元件，其中所述輻射吸收性化合物是按基于它布置于其中的層的總干重計大約0.5-大約30％的量存在的UV敏感性敏化劑。

11.權利要求1的元件，它是平版印刷板前體并且所述基材是親水性含鋁基材。

12.權利要求1的元件，它是作為多個平版印刷板前體之一安排在堆疊體中的平版印刷板前體，所述多個平版印刷板前體在每個獨立平版印刷板前體之間具有隔離紙。

13.一種負性工作、紅外輻射敏感性平版印刷板前體，其包括含鋁基材，該含鋁基材在其上具有可成像層和任選的布置在所述可成像層上的面涂層，所述可成像層包含：

可自由基聚合組分，

在暴露到成像紅外輻射中時提供自由基的引發劑組合物，

輻射吸收性化合物，

聚合物粘結劑，和

表面改性的二氧化硅顆粒，所述顆粒按大約5-大約20重量％的量存在，具有大約2-大約80nm的平均粒度，具有表面羥基，大約100-大約250m²/g的BET表面積，并具有大約0.5-大約5重量％的源自表面疏水性基團的碳含量，所述表面疏水性基團基本上由含1-10個碳原子的烷基或苯基構成。

14.一種提供圖像的方法，包括：

A)將權利要求1的負性工作可成像元件成像，以提供具有曝光區域和未曝光區域的成像元件，和

B)將所述成像元件顯影以僅主要除去所述非曝光區域。

15.權利要求14的方法，其中所述可成像元件是紅外輻射敏感性的，并且使用處于大約700-大約1400nm的波長的紅外激光進行成像。

16.權利要求14的方法，其中所述可成像元件是UV輻射敏感性的，并且使用處于大約250-大約450nm的波長的紅外激光進行成像。

17.權利要求14的方法，其中使用具有大約6-大約13的pH值的顯影劑進行所述顯影。

18.權利要求14的方法，其中所述可成像元件還包括布置在所述可成像層上的面涂層。

19.一種通過權利要求14的方法制備并具有親水性含鋁基材的平版印刷板。