[發(fā)明專利]光學(xué)顯示裝置制造系統(tǒng)及光學(xué)顯示裝置制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980108296.6
• 申請日: 2009-04-10
• 公開（公告）號: CN101965605A
• 公開（公告）日: 2011-02-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 北田和生;由良友和;小鹽智;中園拓矢
• 申請（專利權(quán)）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G09F9/00
• 分類號: G09F9/00;G02F1/13;G02F1/1335
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 李貴亮

1.一種光學(xué)顯示裝置制造系統(tǒng)，用于通過從光學(xué)薄膜被卷繞成輥狀而形成的輥狀卷料送出所述光學(xué)薄膜，將其切斷為規(guī)定尺寸并貼合到光學(xué)顯示單元上，來制造光學(xué)顯示裝置，其特征在于，具備：

對貼合到所述光學(xué)顯示單元之前的所述光學(xué)薄膜進(jìn)行檢查，來檢測缺點(diǎn)的光學(xué)薄膜檢查機(jī)構(gòu)；

對貼合了所述光學(xué)薄膜的所述光學(xué)顯示裝置進(jìn)行檢查，來檢測缺點(diǎn)的光學(xué)顯示裝置檢查機(jī)構(gòu)；

根據(jù)所述光學(xué)顯示裝置檢查機(jī)構(gòu)的檢查結(jié)果，修正所述光學(xué)薄膜檢查機(jī)構(gòu)對所述光學(xué)薄膜檢查缺點(diǎn)的檢測條件的檢測條件修正機(jī)構(gòu)；和

根據(jù)修正后的所述檢測條件，將包含由所述光學(xué)薄膜檢查機(jī)構(gòu)檢測到的缺點(diǎn)的光學(xué)薄膜排除的排除機(jī)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)顯示裝置制造系統(tǒng)，其特征在于，

具備切斷機(jī)構(gòu)，該切斷機(jī)構(gòu)按照由所述光學(xué)薄膜檢查機(jī)構(gòu)根據(jù)修正后的所述檢測條件檢測出的缺點(diǎn)，不包含在與光學(xué)顯示單元貼合的區(qū)域內(nèi)的方式，避開缺點(diǎn)部分將所述光學(xué)薄膜切斷，

所述排除機(jī)構(gòu)將被所述切斷機(jī)構(gòu)切斷的包含所述缺點(diǎn)的光學(xué)薄膜排除。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)顯示裝置制造系統(tǒng)，其特征在于，

所述檢測條件修正機(jī)構(gòu)將所述光學(xué)薄膜檢查機(jī)構(gòu)的檢查結(jié)果與所述光學(xué)顯示裝置檢查機(jī)構(gòu)的檢查結(jié)果進(jìn)行比較，按照所述光學(xué)薄膜檢查機(jī)構(gòu)與所述光學(xué)顯示裝置檢查機(jī)構(gòu)提取出光學(xué)薄膜中的滿足相同基準(zhǔn)的缺點(diǎn)的方式，修正所述檢測條件。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)顯示裝置制造系統(tǒng)，其特征在于，

所述光學(xué)薄膜檢查機(jī)構(gòu)只在所述光學(xué)薄膜中包含的缺點(diǎn)滿足所述檢測條件的情況下，將其檢測為缺點(diǎn)，

在該光學(xué)薄膜檢查機(jī)構(gòu)檢測出的缺點(diǎn)未被所述光學(xué)顯示裝置檢查機(jī)構(gòu)檢測到的情況下，所述檢測條件修正機(jī)構(gòu)將與該缺點(diǎn)對應(yīng)的條件從所述檢測條件中排除。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)顯示裝置制造系統(tǒng)，其特征在于，

所述檢測條件由所述光學(xué)薄膜中的所述缺點(diǎn)與該缺點(diǎn)的周圍的亮度差、及所述缺點(diǎn)的大小來規(guī)定。

6.一種光學(xué)顯示裝置制造方法，用于通過從光學(xué)薄膜被卷繞成輥狀而形成的輥狀卷料送出所述光學(xué)薄膜，將其切斷為規(guī)定尺寸并貼合到光學(xué)顯示單元上，來制造光學(xué)顯示裝置，其特征在于，具備：

對貼合到所述光學(xué)顯示單元之前的所述光學(xué)薄膜進(jìn)行檢查，來檢測缺點(diǎn)的光學(xué)薄膜檢查步驟；

對貼合了所述光學(xué)薄膜的所述光學(xué)顯示裝置進(jìn)行檢查，來檢測缺點(diǎn)的光學(xué)顯示裝置檢查步驟；

根據(jù)所述光學(xué)顯示裝置檢查步驟的檢查結(jié)果，修正通過所述光學(xué)薄膜檢查步驟對所述光學(xué)薄膜檢查缺點(diǎn)的檢測條件的檢測條件修正步驟；和

根據(jù)修正后的所述檢測條件，將包含由所述光學(xué)薄膜檢查步驟檢測到的缺點(diǎn)的光學(xué)薄膜排除的排除步驟。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)顯示裝置制造方法，其特征在于，

具備切斷步驟，在該切斷步驟中，按照由所述光學(xué)薄膜檢查步驟根據(jù)修正后的所述檢測條件檢測出的缺點(diǎn)，不包含在與光學(xué)顯示單元貼合的區(qū)域內(nèi)的方式，避開缺點(diǎn)部分將所述光學(xué)薄膜切斷，

在所述排除步驟中，將通過所述切斷步驟被切斷的包含所述缺點(diǎn)的光學(xué)薄膜排除。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的光學(xué)顯示裝置制造方法，其特征在于，

在所述檢測條件修正步驟中，將所述光學(xué)薄膜檢查步驟的檢查結(jié)果與所述光學(xué)顯示裝置檢查步驟的檢查結(jié)果進(jìn)行比較，按照在所述光學(xué)薄膜檢查步驟與所述光學(xué)顯示裝置檢查步驟中提取出光學(xué)薄膜中的滿足相同基準(zhǔn)的缺點(diǎn)的方式，修正所述檢測條件。

9.根據(jù)權(quán)利要求6～8中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)顯示裝置制造方法，其特征在于，

在所述光學(xué)薄膜檢查步驟中，只在所述光學(xué)薄膜中包含的缺點(diǎn)滿足所述檢測條件的情況下，將其檢測為缺點(diǎn)，

在所述檢測條件修正步驟中，當(dāng)通過該光學(xué)薄膜檢查步驟檢測出的缺點(diǎn)未被所述光學(xué)顯示裝置檢查步驟檢測到時(shí)，將與該缺點(diǎn)對應(yīng)的條件從所述檢測條件中排除。

10.根據(jù)權(quán)利要求6～9中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)顯示裝置制造方法，其特征在于，

所述檢測條件由所述光學(xué)薄膜中的所述缺點(diǎn)與該缺點(diǎn)的周圍的亮度差、及所述缺點(diǎn)的大小規(guī)定。