[發明專利]含鎳硫化物的處理方法無效
| 申請號: | 200980107194.2 | 申請日: | 2009-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN101970117A | 公開(公告)日: | 2011-02-09 |
| 發明(設計)人: | 杰弗里·大衛·西尼爾;布倫丹·派克;布里安·賈德 | 申請(專利權)人: | BHP比利通SSM開發有限公司 |
| 主分類號: | B03D1/02 | 分類號: | B03D1/02 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明;王申 |
| 地址: | 澳大利亞*** | 國省代碼: | 澳大利亞;AU |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硫化物 處理 方法 | ||
1.一種從包含滑石顆粒的礦石或精礦石中分離含鎳硫化物的方法,該方法包括在至少一個浮選階段中處理礦石或精礦石的泥漿的步驟,該方法還包括對所述泥漿中的顆粒進行這里描述的連續再磨的步驟。
2.如權利要求1所述的方法,其中包括:根據顆粒尺寸將所述泥漿分成粗顆粒流和細顆粒流的步驟,以及在所述浮選階段處理各個生產液流的步驟,因而該方法包括:粗顆粒浮選階段和細顆粒浮選階段。
3.如權利要求2所述的方法,其中包括:在至少一個濾清回路中處理從各個浮選階段中流出的粗顆粒生產液流和細顆粒生產液流的步驟。
4.如權利要求2或3所述的方法,其中包括:在分離的粗選階段中處理粗顆粒生產液流和細顆粒生產液流的步驟,無需將精礦或殘渣返回至粗選單元。
5.如權利要求2~4中任一所述的方法,其中包括:對至少一個生產液流中的顆粒進行這里描述的連續再磨的步驟。
6.如權利要求2~5中任一所述的方法,其中包括:在前端濾清回路中濾清從所述粗顆粒浮選階段的粗選單元流出的精礦流的步驟。
7.如權利要求6所述的方法,其中包括:在所述前端濾清回路中濾清所述精礦流之前,碾磨所述粗顆粒浮選階段的粗選單元流出的精礦流中的顆粒的步驟。
8.如權利要求6或7所述的方法,其中包括:在所述前端濾清回路中濾清從所述細顆粒浮選階段的粗選單元流出的第一部分精礦流的步驟。
9.如權利要求8所述的方法,其中包括:在后端濾清回路中濾清從所述細顆粒浮選階段的粗選單元流出的第二部分精礦的步驟。
10.如權利要求9所述的方法,其中包括:在所述后端濾清回路中濾清從所述粗顆粒浮選階段的掃選單元中流出的殘渣流的步驟。
11.如權利要求9或10所述的方法,其中包括:在所述后端濾清回路濾清所述精礦流之前,對所述粗顆粒浮選階段的掃選單元流出的精礦流中的顆粒進行碾磨的步驟。
12.如權利要求9~11中任一所述的方法,其中包括:在所述后端濾清回路中濾清從所述前端濾清回路流出的殘渣流的步驟。
13.如權利要求9~12中任一所述的方法,其中包括:在所述后端濾清回路中碾磨來自以下任一種或多種的精礦:(i)從所述細顆粒浮選階段的粗選單元流出的第二部分精礦、(ii)從所述粗顆粒浮選階段的掃選單元流出的殘渣流、以及(iii)在所述后端濾清回路濾清精礦之前從所述前端濾清回路流出的殘渣流。
14.如之前任一權利要求所述的方法,其中包括:調節所述Eh值使礦石或精礦石中的含鎳硫化物顆粒的疏水性較滑石顆粒差的步驟、向所述泥漿中加入這里描述的表面改性劑以包圍滑石顆粒而不包圍含鎳硫化物顆粒的步驟、以及從所述泥漿中浮選出含鎳硫化物顆粒而將滑石顆粒保留在泥漿中的步驟。
15.如權利要求14所述的方法,其中向所述泥漿中加入表面改性劑的步驟包括:加入酸與表面改性劑以調節所述泥漿的pH值,由此改善隨后浮選步驟的浮選率。
16.如權利要求14或15所述的方法,其中包括:通過降低所述泥漿的Eh值使礦石或精礦石中含鎳硫化物的疏水性變差的步驟。
17.如權利要求16所述的方法,其中包括:通過向所述泥漿中加入還原劑以降低所述泥漿的Eh值的步驟。
18.如權利要求16或17所述的方法,其中包括:將所述泥漿的Eh值降低至少100mV,優選降低至少200mV的步驟。
19.如權利要求14~18中任一所述的方法,其中包括:在向所述泥漿加入表面改性劑之后調節所述泥漿的Eh值的步驟,使含鎳硫化物顆粒疏水性更強,借此改善顆粒的浮選性。
20.如權利要求19所述的方法,其中包括:通過提高所述泥漿的Eh值使礦石或精礦石中含鎳硫化物顆粒的疏水性更強的步驟。
21.如權利要求20所述的方法,其中包括:通過向所述泥漿中提供氧化劑而提高所述泥漿的Eh值的步驟。
22.如權利要求20或21所述的方法,其中包括:將所述泥漿的Eh值提高至少100mV,優選提高至少200mV的步驟。
23.一種用于實施上述任一權利要求所述方法的設備。
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