[發明專利]質譜分析裝置和質譜分析方法

無效

• 申請號: 200980101420.6
• 申請日: 2009-08-28
• 公開（公告）號: CN101903769A
• 公開（公告）日: 2010-12-01
• 發明（設計）人: 鹽川善郎;平野芳樹;中村惠;種田康之;彭強;丸山春美
• 申請（專利權）人: 佳能安內華股份有限公司
• 主分類號: G01N27/62
• 分類號: G01N27/62
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 張濤

1.一種質譜分析裝置，其特征在于，所述質譜分析裝置包括：

電離室，所述電離室由引入的待檢測的氣體產生待檢測的無碎片的離子；

質譜分析室，所述質譜分析室包括質譜分析計，所述質譜分析計按照質量來分離從所述電離室傳輸來的待檢測的離子并且檢測所述離子；

探頭，所述探頭保持液體樣品或固體樣品，并且使所述液體樣品或固體樣品在通過加熱裝置加熱時產生所述待檢測的氣體；以及

氣體引入裝置，所述氣體引入裝置用于從所述探頭引入預定氣體到所述電離室，以將在所述探頭處產生的所述待檢測的氣體傳輸到所述電離室。

2.根據權利要求1所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述探頭布置在通過所述電離室中的目標檢測離子產生區的水平面下方。

3.根據權利要求1所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述預定氣體是第三體氣體，所述第三體氣體具有通過將金屬離子附著到待檢測的氣體分子而產生待檢測的離子的功能，所述待檢測的氣體分子在通過所述加熱裝置加熱時產生。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述探頭包括保持所述液體樣品或固體樣品的保持器，并且布置有多個保持器。

5.根據權利要求3所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述質譜分析裝置還包括樣品蒸發室，所述樣品蒸發室經由連接管道連接到所述電離室，

其中，所述探頭布置在所述樣品蒸發室中，并且所述引入裝置連接到所述樣品蒸發室。

6.根據權利要求5所述的質譜分析裝置，其特征在于，在所述探頭或者所述樣品蒸發室中所述連接管道周圍布置有突起，以限定所述連接管道和所述探頭之間的間隔。

7.根據權利要求6所述的質譜分析裝置，其特征在于，在所述突起附近流動的所述第三體氣體形成粘滯流。

8.一種使用質譜分析裝置的質譜分析方法，所述質譜分析裝置包括：

電離室，所述電離室由引入的待檢測的氣體產生待檢測的無碎片的離子；

質譜分析室，所述質譜分析室具有質譜分析計，所述質譜分析計按照質量來分離從所述電離室傳輸來的待檢測的離子并且檢測所述離子；和

探頭，所述探頭保持液體樣品或固體樣品，并且使所述液體樣品或固體樣品在通過加熱裝置加熱時產生所述待檢測的氣體，

其特征在于，所述方法包括：

從所述探頭引入預定氣體到所述電離室，以將在加熱時在所述探頭處產生的所述待檢測的氣體傳輸到所述電離室。

9.根據權利要求8所述的質譜分析方法，其特征在于，引入第三體氣體作為所述預定氣體，所述第三體氣體具有通過將金屬離子附著到待檢測的氣體分子而產生待檢測的離子的功能，所述待檢測的氣體分子在通過所述加熱裝置加熱時產生。