[發(fā)明專利]超細(xì)氧化鈰粉制備方法及包含其的CMP研磨漿無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980101121.2 | 申請日： | 2009-03-18 |
| 公開（公告）號： | CN101873998A | 公開（公告）日： | 2010-10-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李承周 | 申請（專利權(quán)）人： | 紐維爾 |
| 主分類號： | C01F17/00 | 分類號： | C01F17/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人： | 張晶 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氧化 制備 方法 包含 cmp 研磨 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種超細(xì)氧化鈰粉的制備方法，其特征在于，包括：
滴定氫氧化鈉直至氯化鈰合成物達(dá)到pH9～10，并分別過濾成第一次上清液和第一次沉淀物，而后回收上述第一次沉淀物鈰前驅(qū)體的步驟；
在上述鈰前驅(qū)體滴定硝酸，滴定硝酸至鈰前驅(qū)體的酸度達(dá)到pH4～4.5為止，而后形成硝酸鈰氫氧化物(Ce(NO3)3·6H2O)的步驟；
混合上述硝酸鈰氫氧化物和碳酸前驅(qū)體水溶液，進(jìn)行沉淀反應(yīng)后分別過濾成第二次上清液和第二次沉淀物，而后回收上述第二次沉淀物的步驟；
及在900～1000℃下燒制上述第二次沉淀物，并通過粉碎形成以粒徑為1～2nm的結(jié)晶型顆粒形態(tài)形成的氧化鈰粉步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法制備的超細(xì)氧化鈰粉，形成粒徑為1～2nm的結(jié)晶型顆粒形態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法制備的CMP研磨漿，其包含粒徑為1～2nm且以結(jié)晶型顆粒形態(tài)形成的高純氧化鈰粉。
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于紐維爾，未經(jīng)紐維爾許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200980101121.2/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
