[發(fā)明專利]光盤的修復(fù)方法以及修復(fù)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980100223.2
• 申請日: 2009-08-31
• 公開（公告）號: CN102067216A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宮原隆和;宮原照昌;千地巖一利
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社ELM
• 主分類號: G11B7/26
• 分類號: G11B7/26;B24B37/00;B24B57/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張寶榮

1.一種光盤修復(fù)裝置，其是通過使保持有研磨劑的研磨墊和被修復(fù)盤以接觸狀態(tài)彼此相對旋轉(zhuǎn)，從而對被修復(fù)盤的讀出面進(jìn)行研磨的干式的光盤修復(fù)裝置，其特征在于，具有：

a)向被修復(fù)盤的讀出面或研磨墊供給研磨劑的研磨劑供給機(jī)構(gòu)；

b)向被修復(fù)盤的讀出面或研磨墊供給研磨用水的研磨用水供給機(jī)構(gòu)；

c)供給控制機(jī)構(gòu)，其使所述研磨劑供給機(jī)構(gòu)間歇動作，以維持研磨中保持于研磨墊的研磨劑的量，并且使所述研磨用水供給機(jī)構(gòu)間歇動作，以補(bǔ)給由研磨熱而蒸發(fā)的研磨劑的水分。

2.如權(quán)利要求1所述的光盤修復(fù)裝置，其特征在于，具有：

a)在下表面安裝有保持研磨墊的研磨墊保持部的項(xiàng)蓋；

b)用于打開所述頂蓋的開蓋機(jī)構(gòu)；

c)在被修復(fù)盤的研磨結(jié)束后使所述開蓋機(jī)構(gòu)動作的開蓋控制機(jī)構(gòu)。

3.如權(quán)利要求2所述的光盤修復(fù)裝置，其特征在于，

在被修復(fù)盤及研磨墊的旋轉(zhuǎn)停止之前，所述開蓋控制機(jī)構(gòu)使所述開蓋機(jī)構(gòu)動作。

4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述光盤修復(fù)裝置，其特征在于，

所述研磨劑供給機(jī)構(gòu)具有：

a)作為研磨劑的噴出口的多個研磨劑供給噴嘴；

b)通過與每個所述研磨劑供給噴嘴對應(yīng)而獨(dú)立的流路，向各研磨劑供給噴嘴送出研磨劑的研磨劑供給泵。

5.如權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的光盤修復(fù)裝置，其特征在于，

所述研磨劑供給機(jī)構(gòu)具有用于防止研磨劑的無用垂落的回吸功能。

6.如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的光盤修復(fù)裝置，其特征在于，

具有控制使被修復(fù)盤及研磨墊的旋轉(zhuǎn)停止的時(shí)序的旋轉(zhuǎn)停止控制機(jī)構(gòu)，

a)當(dāng)被修復(fù)盤的研磨結(jié)束時(shí)，所述供給控制機(jī)構(gòu)使研磨劑及研磨用水的供給停止，

b)所述旋轉(zhuǎn)停止控制機(jī)構(gòu)通過所述供給控制機(jī)構(gòu)停止研磨劑及研磨用水的供給后，在經(jīng)過規(guī)定時(shí)間之后，使所述被修復(fù)盤和所述研磨墊的旋轉(zhuǎn)停止，以通過研磨熱使所述被修復(fù)盤和所述研磨墊之間的研磨劑干燥后，由所述研磨墊干拭所述被修復(fù)盤。

7.如權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的光盤修復(fù)裝置，其特征在于，

所述研磨用水供給機(jī)構(gòu)具有：

a)在兩端具有用于使研磨用水向規(guī)定的單向流動的閥且具有柔軟性的管；

b)配置在所述管的側(cè)方的推桿；

c)使所述推桿動作，以由所述推桿壓塌所述管側(cè)面，并將該管內(nèi)的研磨用水向所述規(guī)定的單向送出的驅(qū)動機(jī)構(gòu)。

8.如權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的光盤修復(fù)裝置，其特征在于，

所述供給控制機(jī)構(gòu)具有調(diào)節(jié)研磨劑或研磨用水的噴出量或噴出間隔的噴出條件調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。

9.如權(quán)利要求8所述的光盤修復(fù)裝置，其特征在于，

具有記錄裝置的工作履歷的記錄機(jī)構(gòu)，

所述噴出條件調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)根據(jù)記錄在所述記錄機(jī)構(gòu)中的工作履歷，來調(diào)節(jié)研磨劑或研磨用水的噴出量或噴出間隔。

10.如權(quán)利要求8或9所述的光盤修復(fù)裝置，其特征在于，

具有用于測量氣溫或濕度的測量機(jī)構(gòu)，

所述噴出條件調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)根據(jù)所述測量機(jī)構(gòu)的測量值，來調(diào)節(jié)研磨劑或研磨用水的噴出量或噴出間隔。

11.一種光盤修復(fù)方法，該方法具有通過使保持有研磨劑的研磨墊和被修復(fù)盤以接觸狀態(tài)彼此相對旋轉(zhuǎn)，從而對被修復(fù)盤的讀出面進(jìn)行研磨的干式的研磨工序，其特征在于，

所述研磨工序具有：

a)向被修復(fù)盤的讀出面或研磨墊間歇供給研磨劑，以維持研磨中保持于研磨墊的研磨劑的量的研磨劑供給工序；

b)向被修復(fù)盤的讀出面或研磨墊間歇供給研磨用水，以補(bǔ)給由研磨熱而蒸發(fā)的研磨劑的水分的研磨用水供給工序。