[實(shí)用新型]多晶硅還原爐無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200920351434.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-12-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN201746331U | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-02-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱青松 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 朱青松 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C01B33/03 | 分類(lèi)號(hào): | C01B33/03;C30B29/06 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 上海市陜西北*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多晶 還原 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種多晶硅還原爐,主要是用三氯氫硅和氫氣在加熱的硅芯上進(jìn)行化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)多晶硅的還原爐。
背景技術(shù)
目前,國(guó)內(nèi)外生產(chǎn)多晶硅的主要工藝技術(shù)是“改良西門(mén)子法”:用氯氣和氫氣合成氯化氫,氯化氫和硅粉在一定溫度下合成三氯氫硅,然后對(duì)三氯氫硅進(jìn)行分離精餾提純,提純后的高純?nèi)葰涔枧c氫氣按比例混合后通入多晶硅還原爐內(nèi),在一定的溫度和壓力下,在通電高溫硅芯上進(jìn)行沉積反應(yīng)生成多晶硅,反應(yīng)溫度控制在1080攝氏度左右,最終生成棒狀多晶硅產(chǎn)品,同時(shí)生成四氯化硅、二氯二氫硅、氯化氫等副產(chǎn)物。
多晶硅還原爐是“改良西門(mén)子法”生產(chǎn)多晶硅的主要設(shè)備,由底盤(pán)、含夾套冷卻水的鐘罩式雙層爐體、電極、視鏡孔、混和氣進(jìn)氣管、混和氣尾氣出氣管、爐體冷卻水進(jìn)水管、爐體冷卻水出水管、底盤(pán)冷卻水進(jìn)水管、底盤(pán)冷卻水出水管及其他附屬部件組成,爐體主體采用不銹鋼材質(zhì),以減少設(shè)備材質(zhì)對(duì)產(chǎn)品的污染。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種多晶硅還原爐,該多晶硅還原爐單爐產(chǎn)量比現(xiàn)有的多晶硅還原爐單爐產(chǎn)量有大幅度提升。
本發(fā)明多晶硅還原爐主要由底盤(pán)、含夾套冷卻水的鐘罩式雙層爐體、電極、視鏡孔、混和氣進(jìn)氣管、混和氣尾氣出氣管、爐體冷卻水進(jìn)水管、爐體冷卻水出水管、底盤(pán)冷卻水進(jìn)水管、底盤(pán)冷卻水出水管、連接硅芯與電極的石墨夾頭及其他附屬部件組成,爐體主體采用不銹鋼材質(zhì),以減少設(shè)備材質(zhì)對(duì)產(chǎn)品的污染,每對(duì)電極分正、負(fù)極均勻的設(shè)置在底盤(pán)上,混和氣進(jìn)氣管分為數(shù)個(gè)噴口均勻的設(shè)置在底盤(pán)上,準(zhǔn)備生產(chǎn)時(shí),在底盤(pán)上的各對(duì)電極上安裝好連接硅芯與電極的石墨夾頭并安裝好硅芯,再把含夾套冷卻水的鐘罩式雙層爐體吊裝安裝在底盤(pán)上,進(jìn)行氣密性試驗(yàn),確認(rèn)不漏氣后,通過(guò)電極對(duì)硅芯通電加熱,控制溫度至1080攝氏度,通入三氯氫硅和氫氣的混合氣,在高溫硅芯上進(jìn)行化學(xué)氣相沉積反應(yīng)生成棒狀多晶硅產(chǎn)品,其特征是在還原爐底盤(pán)上均勻布置60對(duì)電極。
該種還原爐每批次產(chǎn)量較現(xiàn)有的還原爐有大幅度的提升,每公斤多晶硅的電耗相應(yīng)降低,多晶硅的綜合生產(chǎn)成本和能耗也相應(yīng)降低。
附圖說(shuō)明
以下附圖結(jié)合說(shuō)明書(shū)具體的說(shuō)明本發(fā)明,但本發(fā)明不限定于這些附圖中所展示出的具體形態(tài)。
圖1為該多晶硅還原爐主視圖。
圖2為60對(duì)電極多晶硅還原爐底盤(pán)俯視圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明涉及的多晶硅還原爐主視圖如圖1所示,1為含夾套冷卻水的鐘罩式雙層爐體,2為視鏡孔,3為底盤(pán),4為底盤(pán)冷卻水進(jìn)水管,5為底盤(pán)冷卻水出水管,6為混和氣進(jìn)氣管,7為進(jìn)氣管?chē)娍冢?為混和氣尾氣出氣管,9為爐體冷卻水進(jìn)水管,10為爐體冷卻水出水管,11為連接硅芯與電極的石墨夾頭,12為電極,13為硅芯,14為夾套冷卻水導(dǎo)流板,準(zhǔn)備生產(chǎn)時(shí),在底盤(pán)3上的各對(duì)電極12上安裝好連接硅芯與電極的石墨夾頭11并安裝好硅芯13,再把含夾套冷卻水的鐘罩式雙層爐體1吊裝安裝在底盤(pán)3上,進(jìn)行氣密性試驗(yàn),確認(rèn)不漏氣后,通過(guò)電極12對(duì)硅芯13通電加熱,控制溫度至1080攝氏度,通過(guò)進(jìn)氣管?chē)娍?噴出的三氯氫硅和氫氣的混合氣在高溫通電硅芯13上進(jìn)行化學(xué)氣相沉積反應(yīng),最終生成棒狀多晶硅產(chǎn)品。
本發(fā)明涉及的多晶硅還原爐底盤(pán)俯視圖如圖2所示,7為進(jìn)氣管?chē)娍冢?為混和氣尾氣出氣管,12為電極,在還原爐底盤(pán)上分別均勻布置60對(duì)電極。
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