[實用新型]晶圓背磨機的旋轉(zhuǎn)磨削吸盤調(diào)節(jié)機構(gòu)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920211039.2 | 申請日: | 2009-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN201552496U | 公開(公告)日: | 2010-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 盧建偉 | 申請(專利權(quán))人: | 昭進半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/04 | 分類號: | B24B37/04;H01L21/00;H01L21/683 |
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| 地址: | 201718 上海市青*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶圓背磨機 旋轉(zhuǎn) 磨削 吸盤 調(diào)節(jié) 機構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種調(diào)節(jié)技術(shù),特別是涉及一種應(yīng)用于晶圓背磨機的旋轉(zhuǎn)磨削吸盤的調(diào)節(jié)機構(gòu)。
背景技術(shù)
隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,集成電路(integratedcircuit,IC)的運用已經(jīng)無處不在,因而作為集成電路的原材料,晶圓制造加工業(yè)的發(fā)展也日趨發(fā)展。集成電路作為極為精密的器件,在各個生產(chǎn)環(huán)節(jié)中對精準度的要求都不容忽視。晶圓制造過程中的每一個步驟,包括蝕刻、氧化、沉積、去光阻、以及化學機械磨削等,其中在機械磨削過程中對晶圓的磨削精度有著極為嚴格的要求和限制。
為了薄化半導(dǎo)體封裝件通常會對晶圓的背面實施磨削,而完成該項制程的就是業(yè)內(nèi)俗稱的晶圓背磨機。所述的晶圓背磨機通常包括可旋轉(zhuǎn)的工作臺面、多個設(shè)置在該工作臺面上并可轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)磨削吸盤、以及懸設(shè)于該工作臺面上方的磨頭等部件。對晶圓進行磨削時,是先將晶圓放置在其中的一個旋轉(zhuǎn)磨削吸盤(chuck)上,由高速旋轉(zhuǎn)的磨頭對晶圓進行磨削作業(yè),待完成磨削后,該工作臺面則轉(zhuǎn)動一定角度,將晶圓送入下一環(huán)節(jié)(例如精磨削或者清洗環(huán)節(jié))。在現(xiàn)有技術(shù)中,為確保對晶圓的磨削精度,必須保證該旋轉(zhuǎn)磨削吸盤的高精度,因此就需要在磨削作業(yè)前對該旋轉(zhuǎn)磨削吸盤進行水平檢測及調(diào)整。
在現(xiàn)有技術(shù)中,所述旋轉(zhuǎn)磨削吸盤是由幾個分布于其周緣的固定螺絲鎖固在工作臺面上,在調(diào)整該旋轉(zhuǎn)磨削吸盤的水平度時也是通過將所述幾個分布于其周緣的固定螺絲旋進旋出以達到調(diào)節(jié)的目的,然,由于所述旋轉(zhuǎn)磨削吸盤大多是微觀傾斜,人工進行調(diào)整并不容易精確到位;而且,緊固時如有微小傾斜會造成被緊固件之間的線接觸或點接觸,如此勢必會很容易造成旋轉(zhuǎn)磨削吸盤再度傾斜;再者,既要讓固定螺絲起到固定旋轉(zhuǎn)磨削吸盤的作用,又要兼顧對旋轉(zhuǎn)磨削吸盤的調(diào)節(jié),實難達到所需的理想狀態(tài)。
所以,如何提供一種磨削吸盤的調(diào)節(jié)機構(gòu),以避免以上所述的缺點,實為相關(guān)領(lǐng)域之業(yè)者目前亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點,本實用新型的目的在于提供一種晶圓背磨機的旋轉(zhuǎn)磨削吸盤調(diào)節(jié)機構(gòu),以實現(xiàn)對旋轉(zhuǎn)磨削吸盤的精確調(diào)節(jié),且易于操作。
為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本實用新型提供一種晶圓背磨機的旋轉(zhuǎn)磨削吸盤調(diào)節(jié)機構(gòu),包括可轉(zhuǎn)動臺面、設(shè)置于所述可轉(zhuǎn)動臺面上的法蘭,且所述法蘭周緣具有至少三個均勻分布的第一螺孔,所述可轉(zhuǎn)動臺面具有對應(yīng)所述第一螺孔的第二螺孔,其特征在于,所述調(diào)節(jié)機構(gòu)還包括:微調(diào)空心螺絲、空心螺帽、球面墊座、球面墊圈、以及緊固螺栓。其中,所述微調(diào)空心螺絲旋設(shè)于所述第一螺孔,并具有對應(yīng)所述第一螺孔的外螺紋,所述微調(diào)空心螺絲頂端具有卡槽;所述空心螺帽的底端具有對應(yīng)卡合至所述卡槽的卡塊,中部具有擋止部以及頂端具有操作部;所述球面墊座位于所述微調(diào)空心螺絲與所述可轉(zhuǎn)動臺面之間,且所述球面墊座底面為平面;所述球面墊圈位于所述微調(diào)空心螺絲與所述球面墊座之間,所述球面墊圈容置于所述球面墊座中;具體地,所述球面墊座具有凹形球面,所述球面墊圈與所述球面墊座的凹形球面相吻合;所述緊固螺栓依次穿過所述空心螺帽、微調(diào)空心螺絲、球面墊圈及球面墊座鎖固于所述第二螺孔。
于本實用新型的晶圓背磨機的旋轉(zhuǎn)磨削吸盤調(diào)節(jié)機構(gòu)中,所述空心螺帽的擋止部的直徑大于所述第一螺孔的孔徑,以使所述空心螺帽被旋動時不致于落入所述第一螺孔中;所述空心螺帽的操作部呈六角螺帽結(jié)構(gòu);所述微調(diào)空心螺絲的底端抵靠于所述球面墊圈上;連通所述第一螺孔的底端具有容置沉孔,用于容置所述球面墊圈及球面墊座。
如上所述,本實用新型的晶圓背磨機的旋轉(zhuǎn)磨削吸盤調(diào)節(jié)機構(gòu),主要是由微調(diào)空心螺絲、空心螺帽、球面墊座、球面墊圈、以及緊固螺栓相互配合,其中,藉由所述微調(diào)空心螺絲、空心螺帽、球面墊座以及球面墊圈用于對法蘭進行微調(diào),所述緊固螺栓用于最后固定,與現(xiàn)有技術(shù)相比,微調(diào)元件和鎖固元件之間相互獨立,且由于本實用新型采用了球面墊座及球面墊圈不但使得調(diào)節(jié)容易操作,而且還解決了現(xiàn)有技術(shù)中螺栓與工作臺的線接觸或點接觸而引起的調(diào)節(jié)不理想或調(diào)節(jié)后穩(wěn)定性差等問題,即有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點。
附圖說明
圖1顯示為本實用新型的調(diào)節(jié)機構(gòu)的立體分解示意圖。
圖2顯示為本實用新型的調(diào)節(jié)機構(gòu)的剖面分解示意圖。
圖3顯示為本實用新型的調(diào)節(jié)機構(gòu)的結(jié)合示意圖。
圖4顯示為本實用新型的旋轉(zhuǎn)磨削吸盤與可轉(zhuǎn)動臺面的分解示意圖。
圖5顯示為本實用新型的旋轉(zhuǎn)磨削吸盤的分布示意圖。
元件標號的簡單說明:
1??????可轉(zhuǎn)動臺面
11?????第二螺孔
2??????中心轉(zhuǎn)軸
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