[實用新型]濕法硅片自動插片機的送片槽板無效
| 申請號: | 200920187713.8 | 申請日: | 2009-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN201508849U | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發明(設計)人: | 凌兆貴;顧韻 | 申請(專利權)人: | 無錫市南亞科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;B65G51/01;B65G49/07;B65B5/00;B65B35/10 |
| 代理公司: | 無錫華源專利事務所 32228 | 代理人: | 聶漢欽 |
| 地址: | 214024 江蘇省無*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濕法 硅片 自動 插片機 送片槽板 | ||
技術領域
本實用新型涉及太陽能硅電池片的生產設備,尤其涉及濕法硅片自動插片機。
背景技術
太陽能硅電池片的生產環節中有一種濕法硅片自動插片機,可實現硅片的自動裝片,工作原理是通過水為介質,柔性接觸于硅片,利用水流形成瀑布斜面使硅片滑入硅片盒內。但在使用過程中發現,由于水的吸力使硅片吸附于槽板,經常出現硅片不能無阻力順暢的滑入硅片盒內,影響了硅片的裝片效率,同時容易造成硅片破損。
實用新型內容
本實用新型針對現有技術存在的上述不足進行研究和改進,提供一種能防止硅片吸附的濕法硅片自動插片機的送片槽板。
為了解決上述技術問題,本實用新型采用如下的技術方案:
濕法硅片自動插片機的送片槽板,包括底板,分別安裝在底板上的左側板以及右側板,底板上設置導流條,導流條分別開有一條凹槽,凹槽頭部與導流條之間設置過渡面,凹槽尾部與導流條尾部平齊,凹槽按長度的不同至少可以劃分為三組,所述每組的凹槽數量至少為三條。
進一步地,凹槽與導流條之間的過渡面為圓弧。
本實用新型的技術效果在于:凹槽及圓弧過渡面能使水流運動產生浮點,避免硅片吸附在送片槽板上,使得硅片能快速平穩的滑入硅片盒內。
附圖說明
圖1為本實用新型結構的主視示意圖,其中的硅片不屬于本實用新型;
圖2為圖1的仰視圖;
圖3為圖2中B處的放大圖;
圖4為圖1中的A-A剖視圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步的說明。
見圖1、圖2,本實用新型包括底板1,左側板4以及右側板5分別通過螺釘3安裝在底板1上,底板1上均勻分布有導流條2。如圖1、圖3所示,每個導流條2分別開有一條凹槽6,凹槽6的尾部與導流條2的尾部平齊,如圖1、圖4所示,凹槽6的頭部與導流條2之間設置圓弧過渡面8,凹槽6按長度不同至少可以劃分為三組,每組至少有三個凹槽6,以圖1中給出的三組凹槽為例,凹槽組6-1的長度大于凹槽組6-2,凹槽組6-2的長度大于凹槽組6-3。
本實用新型工作時,見圖1,底板1上放置有硅片7,且在底板1上自下往上的方向通有水流,硅片7順著水流滑向硅片盒(圖中未畫出),左側板4、右側板5分別對硅片7有限位作用,水流在通過凹槽6流至圓弧過渡面8時,受到圓弧過渡面8的阻力作用產生湍流,在圓弧過渡面8處形成略高于平均水面的浮點,所述浮點使硅片7漂浮于底板1之上滑動,從而避免了硅片7吸附于底板1上,按長度的不同分別設置至少三組凹槽,能使硅片7均勻的受到所述浮點的作用。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





