[實用新型]濕法硅片自動插片機的送片槽板無效
| 申請號: | 200920187713.8 | 申請日: | 2009-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN201508849U | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發明(設計)人: | 凌兆貴;顧韻 | 申請(專利權)人: | 無錫市南亞科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;B65G51/01;B65G49/07;B65B5/00;B65B35/10 |
| 代理公司: | 無錫華源專利事務所 32228 | 代理人: | 聶漢欽 |
| 地址: | 214024 江蘇省無*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濕法 硅片 自動 插片機 送片槽板 | ||
【權利要求書】:
1.濕法硅片自動插片機的送片槽板,包括底板,分別安裝在所述底板上的左側板以及右側板,底板上均勻分布有導流條,其特征在于所述導流條分別開有凹槽,所述凹槽頭部與導流條之間設置過渡面,所述凹槽尾部與所述導流條尾部平齊。
2.根據權利要求1所述的濕法硅片自動插片機的送片槽板,其特征在于所述凹槽與所述導流條之間的過渡面為圓弧過渡面。
3.根據權利要求1或2所述的濕法硅片自動插片機的送片槽板,其特征在于所述凹槽按長度至少可以劃分為三組,所述每組的凹槽數量至少為三條。
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于無錫市南亞科技有限公司,未經無錫市南亞科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200920187713.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:基于兩用還原爐的鉬粉還原系統
- 下一篇:一種超聲霧化混合設備
- 同類專利
- 專利分類
H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





