[實用新型]光學靶標及其加工設備

有效

• 申請號: 200920185890.2
• 申請日: 2009-07-16
• 公開（公告）號: CN201489199U
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發明（設計）人: 惠國慶;郭學亮
• 申請（專利權）人: 蘇州光韻達光電科技有限公司
• 主分類號: G02B27/46
• 分類號: G02B27/46;B23K26/38;B23K26/14
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 范晴

1.一種光學靶標，其特征在于：所述光學靶標上光柵的周期范圍為：0.05毫米～1毫米。

2.一種權利要求1所述的光學靶標的加工設備，包括激光切割裝置(1)和激光切割輔助氣體供應裝置，所述輔助氣體供應裝置包括普通氣體發生裝置(2)、設于普通氣體發生裝置(2)氣體輸出管道上的普通氣體凈化裝置(3)，其特征在于：所述輔助氣體供應裝置還包括液氧發生裝置(4)以及將液氧發生裝置(4)產生的液氧汽化的液氧汽化裝置，所述液氧汽化裝置和普通氣體凈化裝置(3)的輸出端分別通過氣體調節閥(6)與激光切割裝置(1)的輔助氣體輸入端連通。

3.根據權利要求2所述的光學靶標的加工設備，其特征在于：所述液氧汽化裝置包括設于液氧發生裝置(4)內的蒸發器以及在液氧發生裝置(4)的輸出管路上設置的氣體發生器(5)。