[實用新型]用于在真空下實施襯底的表面處理的設備

有效

• 申請號: 200920165746.2
• 申請日: 2009-07-22
• 公開（公告）號: CN201485501U
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發明（設計）人: 亨里克·榮格克蘭茨;托斯特恩·羅賽爾
• 申請（專利權）人: 因派科特涂料公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C16/54
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 王漪;武晶晶

1.一種用于在真空下實施襯底的表面處理的設備，所述設備包括外殼，所述外殼具有與至少一個真空源相通的至少兩個室，所述至少兩個室中的至少一個室被設計成起到能夠暴露于大氣的真空鎖定室的作用，襯底可被引入到所述至少一個室中并可被去除以進入剩余的室，其特征在于，所述外殼具有上部外殼半部分和下部外殼半部分以及旋轉器，所述上部外殼半部分和下部外殼半部分的外周通過韌性密封構件連接，所述外殼半部分中的至少一個具有凹陷，所述凹陷預期構成所述室中的至少一些，所述旋轉器樞軸旋轉地安裝在所述外殼半部分之間且具有襯底預期置于其中的凹陷，所述外殼半部分被設計成在產生力的構件的作用下，從第一位置移動至第二位置，在所述第一位置，所述外殼半部分通過與所述旋轉器的緊密密封接觸而阻止所述旋轉器旋轉，在所述第二位置，所述上部外殼半部分和下部外殼半部分與所述旋轉器分開，以便允許所述旋轉器旋轉至預定的位置，在所述預定的位置處，所述旋轉器內的至少一個凹陷至少部分地與所述室中的一個重合，從而允許襯底在所述室之間移動。

2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述上部外殼半部分和下部外殼半部分被設計成，當所述產生力的構件不再作用在所述外殼半部分之間時，所述上部外殼半部分和下部外殼半部分從所述第二位置呈現到所述第一位置。

3.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述上部外殼半部分和下部外殼半部分都具有相對的且一致的凹陷，且所述旋轉器內的凹陷是貫通凹陷。

4.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述真空鎖定室的外周設置有密封構件，所述密封構件被設計成當所述外殼半部分處于其第一位置時，密封所述真空鎖定室而與所述外殼的其余部分和所述旋轉器隔離。

5.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述剩余的室中的至少一個室的外周設置有密封構件，所述密封構件被設計成當所述外殼半部分處于其第一位置時，密封所述至少一個室而與所述外殼的其余部分和所述旋轉器隔離。

6.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述室被設計成與同一個真空源相通。

7.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述室中的至少一個室被設計成與真空源相通，所述真空源被設計成僅與前述的室相通。

8.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述韌性密封構件是金屬波紋管。

9.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述密封構件是O型環。

10.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述產生力的構件是液壓缸。