[實用新型]用于在真空下實施襯底的表面處理的設備有效
| 申請號: | 200920165746.2 | 申請日: | 2009-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN201485501U | 公開(公告)日: | 2010-05-26 |
| 發明(設計)人: | 亨里克·榮格克蘭茨;托斯特恩·羅賽爾 | 申請(專利權)人: | 因派科特涂料公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 王漪;武晶晶 |
| 地址: | 瑞典林*** | 國省代碼: | 瑞典;SE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 真空 實施 襯底 表面 處理 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種用于在真空下實施襯底的表面處理的設備。
背景技術
處理物體的表面或用薄膜涂覆物體的表面以便賦予物體改進的特征是本領域長期以來已知的方法。除了為純粹裝飾性的應用而采用表面處理之外,工具、機器零件和電子元件以及其他的物體也可以進行表面處理。這種處理進一步使用在醫療和光學環境中。
大多數表面處理過程在真空下進行。這種過程的示例包括所謂的PVD、CVD和濺射,以及其他用于清潔表面的過程。
現有技術包括所謂的用于在真空下對襯底進行表面處理的集群系統(cluster?system),該系統包括用于在許多不同的加工室之間移動襯底的自動設備,每一個加工室內進行各自的表面處理加工。這樣的自動設備必須按順序地服務于系統加工室,這限制了系統的效率。此類型的自動設備可包括先進的電子設備和軟件。此外,對集群系統來說,可能難以將它們設置成使每一個襯底在真空中消耗的時間對所有襯底來說都是一樣的。一些集群系統僅被設計成能夠處理一種類型的襯底,且如果系統要處理其他類型的襯底,就需要轉換系統,而進行系統的轉換可能是困難且昂貴的。
發明內容
本實用新型的目的是提供一種用于改進在包含于設備中的各室之間移動襯底的設備。
此目的經由一種用于在真空下實施襯底的表面處理的設備來實現。所述設備包括外殼,外殼具有與至少一個真空源相通的至少兩個室,至少兩個室中的至少一個室被設計成起到能夠暴露于大氣的真空鎖定室的作用,襯底可被引入到至少一個室中并可被去除以進入剩余的室,其特征在于,外殼具有上部外殼半部分和下部外殼半部分以及旋轉器,上部外殼半部分和下部外殼半部分的外周通過韌性密封構件連接,外殼半部分中的至少一個具有凹陷,凹陷預期構成室中的至少一些,旋轉器樞軸旋轉地安裝在外殼半部分之間,且具有襯底預期置于其中的凹陷,外殼半部分被設計成在產生力的構件的作用下,從第一位置移動至第二位置,在第一位置,外殼半部分通過與旋轉器的緊密密封接觸而阻止旋轉器旋轉,在第二位置,上部外殼半部分和下部外殼半部分與旋轉器分開,以便允許旋轉器旋轉至預定的位置,在預定的位置處,旋轉器內的至少一個凹陷至少部分地與室中的一個重合,從而允許襯底在室之間移動。
而且,在根據本實用新型的設備中,大部分表面處理加工并行進行,這使得表面處理比現有技術中的表面處理更有效。
而且,本實用新型提供了優勢,這是因為設備中所消耗的表面加工的總時間對所有的襯底都是相同的。
附圖說明
下面將參考附圖來更詳細地說明根據本實用新型的設備的優選實施方案,附圖中:
圖1顯示了設備的優選實施方案的示意性平面圖,以及
圖2顯示了在兩個位置穿過圖1中的設備的示意性截面,左手部分描述了第一位置,且右手部分描述了第二位置。
具體實施方式
設備包括具有上部外殼半部分6與下部外殼半部分7的外殼1,旋轉器9樞軸轉動地安裝在上部外殼半部分6與下部外殼半部分7之間。在優選的實施方案中,外殼半部分6、7包括優選地具有相同尺寸的相對的且一致的凹陷8,凹陷8構成了室2-5。在室2-5中,一個室構成了剩余的室3-5的真空鎖定室2,而剩余的室3-5構成加工室,如圖1所示。設備設置有如,諸如真空泵的外部真空源,外部真空源通過每一個室內的開口(未顯示在附圖中)與室2-5相通,開口被設計成使各室僅以可忽略不計的方式與另一個室相通。
將會從圖2中看到,外殼半部分6、7被設計成呈現兩個位置中的任一個,在第一位置,兩個外殼半部分與旋轉器9接觸,于是旋轉器9被阻止旋轉。在第二位置,外殼半部分與旋轉器9分開,使得旋轉器9能夠旋轉。在外殼半部分之間起作用的是液壓構件12,諸如,如汽缸,液壓構件12被設計成依靠液壓力將外殼半部分6、7設定至第二位置,由箭頭13表示。上部外殼半部分6和下部外殼半部分7被進一步設計成當液壓力不再作用在外殼半部分6、7上時,它們恢復至第一位置。因此,上部外殼半部分6和下部外殼半部分7只在大氣壓力的作用下被設定至第一位置,由箭頭14表示,這意味著沒有提供外部壓力。在優選的實施方案中,旋轉器9包括貫通凹陷(through-recesses)10,其被設置成使旋轉器9旋轉(由箭頭11表示)至預定的旋轉位置時,凹陷10與凹陷8重合。貫通凹陷10根據待進行表面處理的襯底來設計。
旋轉器9被設計成與用于對具有不同尺寸的襯底進行表面處理的具有不同設計形狀的凹陷10是可互換的。
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