[實用新型]高濃度印染廢水處理回用裝置有效
| 申請號： | 200920130455.X | 申請日： | 2009-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN201433121Y | 公開（公告）日： | 2010-03-31 |
| 發明（設計）人： | 文秋紅;丁健生;王小仙 | 申請（專利權）人： | 宇星科技發展(深圳)有限公司 |
| 主分類號： | C02F1/48 | 分類號： | C02F1/48;B01D21/28 |
| 代理公司： | 深圳市精英專利事務所 | 代理人： | 馮 筠;李新林 |
| 地址： | 518000廣東省深圳市南山區*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濃度 印染 廢水處理 裝置 | ||
【權利要求書】：
1、一種高濃度印染廢水處理回用裝置，包括移動平臺、混凝池、磁場沉降池、攪拌器、磁流體添加器、磁電極層、出水堰箱，其特征在于：混凝池和磁場沉降池安置在移動平臺上，攪拌器安裝在混凝池內，磁流體添加器安裝在混凝池上方，磁電極層安裝在磁場沉降池內，出水堰箱安裝在磁場沉降池上方。
2、根據權利要求1所述的一種高濃度印染廢水處理回用裝置，其特征在于：所述的攪拌器動力部分安裝在混凝池頂蓋上，攪拌器葉片伸向混凝池內的下部。
3、根據權利要求1所述的一種高濃度印染廢水處理回用裝置，其特征在于：所述的印染廢水進水管安裝在混凝池下部。
4、根據權利要求1所述的一種高濃度印染廢水處理回用裝置，其特征在于：所述的磁電極層，正負極相對安裝在磁場沉降池內上頂部和下底部。
5、根據權利要求1所述的一種高濃度印染廢水處理回用裝置，其特征在于：所述的出水堰箱是多孔的。
6、根據權利要求1所述的一種高濃度印染廢水處理回用裝置，其特征在于：所述的磁場沉降池上方設置有溶解氧測定口和水位控制測定口，底部設置有排泥口。
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