[實用新型]基片清洗容器

無效

• 申請號: 200920126841.1
• 申請日: 2009-03-30
• 公開（公告）號: CN201534157U
• 公開（公告）日: 2010-07-28
• 發明（設計）人: 謝鮮武
• 申請（專利權）人: 謝鮮武
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種基片清洗容器，具體地說，涉及在對用于生產半導體晶片的圓形硅基片，用于生產計算機磁記錄存儲器(HDD)介質的玻璃、陶瓷和鋁質圓形基片，用于生產光學記錄存儲器光盤(CD)、數字通用光盤(DVD)塑料圓形基片，用于生產光學器件的玻璃圓形基片的拋光、清洗裝置中，作為清洗基片的容器。

背景技術

圓形硅基片，玻璃、陶瓷、塑料和鋁質圓形基片廣泛應用于半導體、計算機、信息工業、及民用產品中。在基片的生產過程中，必需對基片反復進行碾磨、化學機械拋光(CMP，Chemical?mechanical?polishing)，通過使用去離子水(DIW)或化學品的濕法清洗工藝，去除殘留在表面的化學物質、小顆粒和其它雜質，降低基片的表面粗糙度，提高基片的表面光潔性，從而提高產品的成品率。

在現有的基片拋光、清洗裝置中，基片由基片傳遞組件和基片升降組件垂直放置于基片清洗容器中，清洗液體供給組件提供基片清洗容器清洗液體，同時供電給安裝于基片清洗容器底部的超聲波發生器，對基片清洗容器中的基片進行清洗。

現有的一種基片清洗容器，清洗液體供給組件安裝在清洗容器外壁兩側，同時供給基片清洗容器所需的清洗液體。由于清洗液體的相向對流，造成清洗液體在基片清洗容器的紊流，不利于基片清洗容器內的小顆粒和雜質隨溢出的清洗液體排出。現有的另一種基片清洗容器，清洗液體供給組件安裝在基片清洗容器外壁一側，供給基片清洗容器所需的清洗液體。溢出的清洗液體從基片清洗容器的另一側排出，形成橫向的液體流動。由于超聲波發生器安裝于基片清洗容器的底部，基片放在基片支撐架上，與基片支撐架一起垂直放入基片清洗容器中，橫向的液體流動降低了超聲波對基片表面的清洗效果，同時基片支撐架阻礙了清洗液體的流動，不利于基片支撐架內側的小顆粒和雜質隨清洗液體排出。因而降低了設備的清洗效果，延長了設備的清洗時間，從而影響設備的生產效率和基片的成品率。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本實用新型提供一種基片清洗容器，用于在基片的拋光、清洗裝置中，作為基片清洗的容器。用于本實用新型的基片可以是圓形硅基片，磁記錄介質基片，以及具有相似形狀結構的其他圓形盤狀基片。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種基片清洗容器，其特征是該基片清洗容器包括：內容器，用于存儲基片的清洗液體；外容器，用于存儲內容器溢出的清洗液體及清洗液體的循環；以及二組清洗液體噴嘴，用于供給內容器清洗液體；其中，外容器安裝在內容器外壁上方，二組清洗液體噴嘴安裝在內容器內壁下方兩側的斜面上。清洗液體供給組件經二組清洗液體噴嘴供給基片清洗容器清洗液體。清洗液體以一定角度達到基片和基片支撐架的底部。在基片清洗容器中的清洗液體從內容器底部上升至內容器頂部，再從內容器溢出至外容器。清洗液體的流向與超聲波對基片表面的清洗方向一致，且與基片和基片支撐架在基片清洗容器垂直放置方向一致，有利于基片支撐架內側和內容器底部的小顆粒和雜質隨清洗液體排出。

前述的基片清洗容器，其中在內容器內壁下方兩側形成一定角度的斜面。

前述的基片清洗容器，其中二組清洗液體噴嘴安裝在內容器內壁下方兩側的斜面上。

前述的基片清洗容器，其中所述的二組清洗液體噴嘴供給清洗液體的角度可是固定的，也可是可調節的。

本實用新型的有益效果是，基片清洗容器中清洗液體的流動方向有利于基片清洗容器中和基片支撐架內側的小顆粒和雜質隨清洗液體排出，且與超聲波對基片表面的清洗方向一致，提高了拋光、清洗裝置的清洗效果，從而提高了設備的生產效率和基片的成品率。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型基片清洗容器一個實施例的立體結構示意圖。

圖2是本實用新型基片清洗容器一個實施例的正面構造示意圖。

具體實施方式

本實用新型基片清洗容器，用于在拋光、清洗裝置中，作為清洗基片的容器。其中所涉及的基片，包括用于生產半導體晶片的圓形硅基片，用于生產計算機磁記錄存儲器介質的玻璃、陶瓷和鋁質圓形基片，用于生產光學記錄存儲器光盤、數字通用光盤的塑料圓形基片，及用于生產光學器件的玻璃圓形基片。為方便說明，在下面實施例中所提及的“基片”是表示上述各種基片，用101表示。