[實用新型]無水跡基片清洗干燥裝置

無效

• 申請號: 200920126840.7
• 申請日: 2009-03-30
• 公開（公告）號: CN201387879Y
• 公開（公告）日: 2010-01-20
• 發明（設計）人: 謝鮮武
• 申請（專利權）人: 謝鮮武
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/683;B08B3/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種無水跡基片清洗干燥裝置，其特征是，其包括：

基片清洗容器，用于清洗基片；

基片氣體干燥室，用于基片從基片清洗容器中提升時供給室溫干燥氣體；

基片干燥容器，用于供給高溫干燥氣體對基片進行高溫氣體干燥；以及

基片傳遞組件，用于將基片從基片清洗容器傳送至基片干燥容器；

其中，基片氣體干燥室布置在基片清洗容器的上方，基片清洗容器與基片干燥容器并行排列，基片傳遞組件布置在基片清洗容器與基片干燥容器的一側。

2.如權利要求1所述的無水跡基片清洗干燥裝置，其特征是：基片從所述的基片清洗容器中緩慢提升至所述的基片氣體干燥室。

3.如權利要求1所述的無水跡基片清洗干燥裝置，其特征是：用于所述的基片氣體干燥室的室溫干燥氣體是室溫異丙醇(IPA)氣體。

4.如權利要求1所述的無水跡基片清洗干燥裝置，其特征是：用于所述的基片干燥容器的高溫干燥氣體是高溫干燥清潔空氣(CAD)或氮氣(N2)。

5.如權利要求1所述的無水跡基片清洗干燥裝置，其特征是：用于所述的基片干燥容器的基片支撐架的底部支撐塊上部成刀尖狀。

6.如權利要求1所述的無水跡基片清洗干燥裝置，其特征是：所述的基片傳遞組件的基片取放組件布置在基片上方，打開和關閉基片取放組件從基片支撐架上取放基片。