[實用新型]一種等離子體化學氣相沉積生產(chǎn)線機械傳動裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920094718.6 | 申請日： | 2009-11-17 |
| 公開（公告）號： | CN201538815U | 公開（公告）日： | 2010-08-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊繼澤;劉萬學;劉志才;崔慶春;孫學義;馬力斌;強艷建;杜宏荀 | 申請（專利權(quán)）人： | 吉林慶達新能源電力股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/513 | 分類號： | C23C16/513;H01L31/18 |
| 代理公司： | 吉林省長春市新時代專利商標代理有限公司 22204 | 代理人： | 石岱 |
| 地址： | 136001 *** | 國省代碼： | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 等離子體 化學 沉積 生產(chǎn)線 機械傳動 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種等離子體化學氣相沉積生產(chǎn)線機械傳動裝置，其特征在于：該傳動裝置包括機械手(1)、上片臺(2)、運載小車(3)、導軌(4)、沉積艙室(5)、下片臺(6)，所述的導軌(4)構(gòu)成一個矩形回路，其中上片臺(2)設(shè)置回路中A方向和D方向的交界處，多個沉積艙室(5)設(shè)置在B方向的導軌上，運載小車(3)被設(shè)置在導軌(4)上，下片臺(6)設(shè)置在回路中C方向和D方向的交界處，所述的上片臺(2)和下片臺(6)上設(shè)置有機械手(1)。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
