[實用新型]多晶硅還原爐電極外套強制冷卻裝置

無效

• 申請號: 200920090542.7
• 申請日: 2009-06-01
• 公開（公告）號: CN201433108Y
• 公開（公告）日: 2010-03-31
• 發明（設計）人: 趙雙喜;林亮亮;薛愛芳;李開英;白建峰;趙金勇
• 申請（專利權）人: 三門峽化工機械有限公司
• 主分類號: C01B33/03
• 分類號: C01B33/03
• 代理公司: 鄭州科維專利代理有限公司
• 代理人: 張欣棠;郭乃鳳

一、技術領域：

本實用新型涉及一種冷卻裝置，尤其是涉及一種多晶硅還原爐電極外套強制冷卻裝置。

二、背景技術：

多晶硅還原爐主要由底盤、含夾套冷卻介質的鐘罩式雙層爐體、電極、視鏡孔、底盤冷卻水進水管、底盤冷卻水出水管、電極冷卻水進水管、電極冷卻水出水管及其他附屬部件組成。爐體主體采用不銹鋼材質制成，以減少設備材質對產品的污染。電極是多晶硅還原爐的核心部件，它在工作中利用電能使硅元素從混合介質中還原出來，因此，電極的工作狀態直接影響多晶硅的產量和產品質量，電極在工作中產生的熱量必須由電極內部和底盤夾腔中的冷卻介質(目前采用水)帶走。現在多晶硅還原爐底盤腔的冷卻方式均采用冷卻介質集中進出的方法，其缺點是冷卻介質進入腔體后再分散至各電極座的過程中首先被底盤加熱，從而影響了對電極座的冷卻效果。尤其是采用水作為冷卻介質時頂部汽化使底盤夾腔中不能滿液導致電極座的頂部不能充分冷卻直接影響甚至損壞電極與電極座之間的絕緣體，進而使還原爐不能正常操作并影響多晶硅的產量和品質。

三、實用新型內容：

本實用新型所要解決的技術問題是：克服現有技術的不足，提供一種設計新穎、結構合理、冷卻效果好且絕緣效果好的多晶硅還原爐電極外套強制冷卻裝置。

本實用新型為解決技術問題所采取的的技術方案是：

一種多晶硅還原爐電極外套強制冷卻裝置，含有底盤、底盤夾腔、電極座、電極、冷卻介質進入總管和冷卻介質排出總管，所述每一電極座的外壁均設置有一個夾套，所述夾套下端與所述底盤夾腔的下部底板密封連接，其上端與所述底盤之間留有間隙，所述每一夾套的下部均分別通過冷卻介質分布管與所述冷卻介質進入總管連通。

所述底盤的底部設置有集氣腔，該集氣腔通過氣體導管向外界排放。

所述集氣腔為所述底盤的底部上設置的盲孔，其數量為兩個以上，沿圓周均布。

所述氣體導管為L型，其一端位于所述集氣腔內，另一端貫穿所述底盤夾腔的側壁而出。

所述電極座的數量為14個以上，沿圓周分布。

本實用新型的有益效果是：

1、本實用新型冷卻介質通過分布管路直接進入各冷卻夾套內對電極座外部進行冷卻，而后從夾套頂部進入底盤夾腔對底盤進行冷卻，因而電極座的冷卻效果好，從而保證多品硅的產量和產品質量。

2、本實用新型底盤的底部設置有集氣腔，底盤夾腔內產生的氣(汽)體集中在集氣腔中不占據底盤夾腔的空間，并通過導管排出爐外，這樣就能保證底盤夾腔內為滿液狀態，從而使電極座及底盤得到充分冷卻，保證電極及絕緣體的正常工作，提高使用的安全性。

3、本實用新型在現有還原爐的基礎增加的施工量很少，其制造成本較低，易于推廣，推廣后具有良好的經濟效益。

四、附圖說明：

圖1為多晶硅還原爐電極外套強制冷卻裝置的結構示意圖；

圖2為圖1中A處放大圖；

圖3為圖1中B處放大圖。

五、具體實施方式：

實施例：參見圖1、圖2和圖3，圖中，多晶硅還原爐電極外套強制冷卻裝置含有底盤2、底盤夾腔3、電極座4、電極5、冷卻介質進入總管6和冷卻介質排出總管7，底盤2與爐體1連接，電極5安裝在電極座4中，每一電極座4的外壁均設置有一個夾套8，夾套8下端與底盤夾腔3的下部底板密封連接，其上端與底盤2之間留有間隙，每一夾套8的下部均分別通過冷卻介質分布管9與冷卻介質進入總管6連通；底盤2的底部設置有集氣腔10，該集氣腔10通過氣體導管11與外界大氣連通。

集氣腔10為底盤2的底部上設置的盲孔，其數量為兩個以上，沿圓周均布。氣體導管11為L型，其一端位于集氣腔10內，另一端貫穿底盤夾腔3的側壁而出；所述電極座的數量為14個以上，沿圓周分布，呈環形排列。工作時，冷卻介質進入總管6，再進入冷卻介質分布管9，然后直接進入各冷卻夾套8內，對電極座4外部進行冷卻，而后冷卻介質從夾套8頂部進入底盤夾腔3對底盤2進行冷卻，因而電極座4的冷卻效果好，從而保證多晶硅的產量和產品質量。底盤夾腔3內產生的氣(汽)體集中在集氣腔10中不占據底盤夾腔的空間，并通過氣體導管11排出爐外，這樣就能保證底盤夾腔3內為滿液狀態，從而使電極座4及底盤2得到充分冷卻，保證電極5及絕緣體的正常工作。

改變集氣腔的具體結構形式和數量、改變氣體導管的結構形式、以及改變電極座的數量能夠組成多個實施例，均為本實用新型的常見變化范圍，在此不一一詳述。