[實用新型]化學氣相沉積機臺及其遮蔽框架

有效

• 申請號: 200920076138.4
• 申請日: 2009-06-11
• 公開（公告）號: CN201567370U
• 公開（公告）日: 2010-09-01
• 發明（設計）人: 徐鳴均;蕭文應;鄭琮锜;李亭輝
• 申請（專利權）人: 華映視訊(吳江)有限公司;中華映管股份有限公司
• 主分類號: C23C16/04
• 分類號: C23C16/04
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

1.一種遮蔽框架，可與一承載臺結合，以遮蔽位于承載臺上一基板的周圍區域，其特征在于，包括：

一階梯結構，具有一第一階梯平面與一第一階梯側壁，在該第一階梯側壁上具有一凹槽；

一定位板塊，可嵌入該凹槽而與該階梯結構結合，該定位板塊具有一板面與一側面，在該板面上設置有一定位孔，提供該遮蔽框架與該承載臺結合定位之用，在該側面上設置有至少一螺孔，貫穿該定位板塊；及

一螺絲，經由該螺孔將該定位板塊鎖固于該階梯結構上。

2.如權利要求1所述的遮蔽框架，其特征在于，其中當該定位板塊嵌入該凹槽時，該定位板塊的該板面切齊于該第一階梯平面，且該側面切齊于該第一階梯側壁。

3.如權利要求1所述的遮蔽框架，其特征在于，其中該凹槽可區分為鄰近該凹槽開口端的第一部份凹槽、以及鄰近該凹槽最內側的第二部份凹槽，其中該第一部份凹槽具有較大的開口尺寸，而該第二部份凹槽具有較小的開口尺寸。

4.如權利要求3所述的遮蔽框架，其特征在于，其中該定位板塊可區分為一本體部與二個側翼部，其中該二個側翼部分別位于該本體部的兩側，當該定位板塊嵌入該凹槽時，該本體部嵌入該第二部份凹槽，而該側翼部則嵌入該第一部份凹槽。

5.如權利要求3所述的遮蔽框架，其特征在于，其中該第二部份凹槽側壁上具有內縮的溝槽，而該定位板塊前端側壁上具有凸緣，當該定位板塊嵌入該凹槽時，該凸緣嵌入該溝槽中。

6.一種化學氣相沉積機臺，其特征在于，包括：

一反應室；

一承載臺，用以承載一基板至該反應室中，其中該承載臺外圍上表面具有一定位插銷；及

一遮蔽框架，結合于該承載臺之上，以遮蔽該基板的周圍區域，該遮蔽框架包括了

一階梯結構，具有一第一階梯平面與一第一階梯側壁，在該第一階梯側壁上具有一凹槽，

一定位板塊，可嵌入該凹槽而與該階梯結構結合，該定位板塊具有一板面與一側面，在該板面上設置有一定位孔，用以跟該承載臺的該定位插銷接合，以提供該遮蔽框架與該承載臺結合定位之用，在該側面上設置有至少一螺孔，貫穿該定位板塊，

一螺絲，經由該螺孔將該定位板塊鎖固于該階梯結構上。

7.如權利要求6項所述的化學氣相沉積機臺，其特征在于，其中該承載臺為一矩形結構，且具有至少二個該定位插銷，分別位于其外圍上表面，所述至少二個該定插銷并分別位于該承載臺的二個相對外圍上。

8.如權利要求6所述的化學氣相沉積機臺，其特征在于，其中該遮蔽框架為一矩形框架，具有至少二個該定位板塊，分別位于該矩形框架的二相對邊框上，且每一個該定位板塊由該遮蔽框架的內緣嵌入該階梯結構。

9.如權利要求6所述的化學氣相沉積機臺，其特征在于，其中當該定位板塊嵌入該凹槽時，該定位板塊的該板面切齊于該第一階梯平面，且該側面切齊于該第一階梯側壁。

10.如權利要求6所述的化學氣相沉積機臺，其特征在于，其中該凹槽可區分為鄰近該凹槽開口端的第一部份凹槽、以及鄰近該凹槽最內側的第二部份凹槽，其中該第一部份凹槽具有較大的開口尺寸，而該第二部份凹槽具有較小的開口尺寸。

11.如權利要求10所述的化學氣相沉積機臺，其特征在于，其中該定位板塊可區分為一本體部與二個側翼部，其中該二個側翼部分別位于該本體部的兩側，當該定位板塊嵌入該凹槽時，該本體部嵌入該第二部份凹槽，而側翼部則嵌入該第一部份凹槽。

12.如權利要求10所述的化學氣相沉積機臺，其特征在于，其中該第二部份凹槽側壁上具有內縮的溝槽，而該定位板塊前端側壁上具有凸緣，當該定位板塊嵌入該凹槽時，該凸緣嵌入該溝槽中。