[實用新型]多晶硅還原爐

無效

• 申請號: 200920074339.0
• 申請日: 2009-07-28
• 公開（公告）號: CN201458747U
• 公開（公告）日: 2010-05-12
• 發明（設計）人: 王春龍
• 申請（專利權）人: 王春龍
• 主分類號: C01B33/03
• 分類號: C01B33/03;C30B29/06
• 代理公司: 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232
• 代理人: 孫敏

技術領域

本實用新型涉及一種多晶硅的生產設備，尤其是一種用于生產多晶硅的多晶硅還原爐。

背景技術

隨著科技的發展，太陽能光伏產業和半導體工業的發展也越來越迅猛。作為太陽能光伏產業以及半導體工業主要的原料的多晶硅，其工業需求也是越來越大。

目前，業界生產多晶硅的方法有多種，其中較為常見的是氫還原法。其是把提純好的三氯氫硅和凈化好的氫氣作為原料，通入到反應容器內，在高溫、高壓環境下，兩者在反應容器內發生化學反應，形成多晶硅，并沉積在反應容器內的發熱體上。隨著化學反應的繼續，沉積在發熱體上的多晶硅越來越多，逐漸的將發熱體全部覆蓋，變成一根外表包裹著多晶硅的棒狀體，俗稱硅棒。反應容器內的化學反應將繼續進行，多晶硅也會繼續沉積在硅棒上，使得硅棒的直徑逐漸加大，直到最后達到預定的直徑尺寸，才會停止反應容器內的化學反應。

業界通常使用多晶硅還原爐，作為實施上述化學反應的反應容器。其自身的性能好壞，對其生產的多晶硅的品質有著重大的影響。通常其包括有底座以及與底座連接的爐體。

進一步的，由于爐體與底座，兩者的連接處為兩個平面接觸，兩個接觸表面之間，難免會出現縫隙。因此，為保證多晶硅還原爐內的反應原料不會在爐體與底座的接合處泄漏出去，通常底座與爐體的連接處會設置密封元件。

通常使用的密封元件，由于在使用過程中，其內面會直面爐體內，承受爐體內的高溫高壓。因此，其材料上的選擇十分有限，通常業界選用的材料為聚四氟乙烯，其成本較為高昂。即使如此，選擇的密封元件由于受到高溫高壓的影響，其使用壽命也會迅速縮短，通常只能維持一爐多晶硅生產。如此，每進行一爐多晶硅的生產，都要更換一次底座與爐體之間的密封元件。

而由于密封元件本身成本較為高昂，這無疑是提高了多晶硅的生產成本。且，若在生產過程中，由于意外，使得密封元件損壞，無疑會導致生產原料從爐體與底座的連接處泄漏到外面。這樣，一方面會影響爐體內的多晶硅的生產；另一方面則是，由于爐體內使用的原料具有一定的毒性，其泄漏不僅會造成環境污染，還會導致爐體周圍操作人員的中毒。

因此，業界急需一種多晶硅還原爐的解決方案，來改善或解決上述的問題。

實用新型內容

為了克服現有業界使用的多晶硅還原爐，其使用的用于密封爐體與底座的密封元件體積大，成本高昂，且密封效果不可靠的問題，本實用新型提供一種多晶硅還原爐，其爐體與底座之間密封效果可靠。

本實用新型解決現有技術問題所采用的技術方案是：一種多晶硅還原爐，其包括有底座以及其上設置的爐體.其中底座上設置有第一配接部，爐體上也相應設置有用于與底座第一配接部配接的第二配接部，爐體與底座通過兩者配接部的相互配接，配接在一起.

進一步的，在不同實施方式中，其中爐體與底座的配接部之間的接觸面，與爐體與底座之間的接觸面之間存在一個高度差。

進一步的，在不同實施方式中，其中爐體用于與底座接觸的底端向外延伸出有延伸部，而第二配接部設置于延伸部上。進一步的，在不同實施方式中，延伸部向外延伸出的距離，也就是其外端距離爐體內壁的距離，可隨具體需要而定，并無限定。進而第二配接部距離爐體內壁的距離也是隨需要而定，并無限定。

進一步的，在不同實施方式中，其中底座的第一配接部為一個臺階結構，而爐體的第二配接部為一個向下的凸起結構。

進一步的，在不同實施方式中，其中底座的第一配接部為一個凹槽結構，而爐體的第二配接部為一個向下的凸起結構。

進一步的，在不同實施方式中，其中底座的第一配接部為一個凸起結構，而爐體的第二配接部為一個向上凹陷的凹槽結構。

進一步的，在不同實施方式中，其中底座的第一配接部與爐體的第二配接部之間還設置有一個密封元件。

進一步的，在不同實施方式中，其中底座的第一配接部內設置有一個凹槽，密封元件部分收容于該凹槽內。

進一步的，在不同實施方式中，其中底座和爐體上，還設置有緊固元件，例如。緊固螺釘，以將兩者固定在一起。

本實用新型的有益效果是，在多晶硅還原爐的爐體與底座上設置相互配接的配接結構，通過兩者配接結構之間的配接來進行兩者之間的密封，密封效果好。進一步爐體和底座的配接部之間還設置有密封件，進一步保障了密封效果，同時由于密封件位于冷卻水或冷卻油之外的低溫區，所以對密封件的材料要求不高，而且密封件的體積也可以做的較小，一方面使得生產成本進一步降低，另一方面也延長了密封件的使用壽命。

附圖說明

圖1是本實用新型涉及的多晶硅還原爐的結構示意圖。

具體實施方式