[實用新型]掩模盒有效
| 申請號: | 200920073141.0 | 申請日: | 2009-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN201540453U | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發明(設計)人: | 左仲;王明珠;許俊;趙慶國 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 樓仙英 |
| 地址: | 201203 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩模盒 | ||
1.一種掩模盒,其具有方形盒身以及盒蓋,所述盒身與盒蓋可以閉合以及開啟,以便取放以及存儲掩膜,在所述盒身與盒蓋的內側邊沿布置有多個支持裝置,用于支持放置于掩膜盒中的掩膜,其特征在于,所述支持裝置具有凸起的弧形支持面,該弧形支持面的一端連接所述盒身或盒蓋的側壁,另一端連接盒蓋的頂面或者盒身的底面,構成向盒內部空間凸起的弧形支持面。
2.根據權利要求1所述的掩模盒,其特征在于所述弧形支持面與盒身底面或盒蓋頂面的接合部具有臺階狀的凸出結構。
3.根據權利要求1或2所述的掩模盒,其特征在于所述具有凸起的弧形支持面的支持裝置是允許彈性形變的彈性結構。
4.根據權利要求3所述的掩膜盒,其特征在于,所述彈性結構與盒身或盒蓋一體成型。
5.根據權利要求1所述的掩模盒,其特征在于,所述的盒身或盒蓋具有至少3個所述支持裝置。
6.根據權利要求1所述的掩膜盒,其特征在于,所述的盒身或盒蓋具有4個所述支持裝置。
7.如權利要求6所述的掩模盒,其特征在于,所述4個支持裝置兩兩對稱地分布在所述盒身內側的邊沿上,其中2個支持裝置等距地分布在盒身一個內角的兩個側邊上,另2個支持裝置對應地分布于和所述內角相對的內角的兩個側邊上。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





