[實(shí)用新型]掩模盒有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200920073141.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-05-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201540453U | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 左仲;王明珠;許俊;趙慶國(guó) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/00 | 分類號(hào): | G03F1/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 樓仙英 |
| 地址: | 201203 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掩模盒 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種存放光刻技術(shù)中所用掩模的掩模盒。
背景技術(shù)
在集成電路制造工藝中,光刻技術(shù)被廣泛應(yīng)用。光刻用的掩模是影響光刻性能的關(guān)鍵物品,如果掩模出現(xiàn)問(wèn)題,例如其被損壞的情況,將直接影響到許多涉及光刻的制程,使生產(chǎn)過(guò)程不能正常進(jìn)行。
掩模上刻有預(yù)定的圖案,可以在光刻過(guò)程中將其復(fù)制到硅片上形成半導(dǎo)體器件的電路結(jié)構(gòu)。掩模一般是在石英玻璃基材上以特殊材料形成所述圖案,例如目前常用的嵌入式相移掩模中的一種,即采用硅化鉬(MoSiOx)類材質(zhì)的膜在基材上形成所述圖案。這種膜本身較軟,容易受到物理?yè)p害,而掩模上的圖案又通常是微米級(jí),或者深亞微米級(jí)的,一點(diǎn)微小的損傷即可影響到圖案的結(jié)構(gòu)。這些因素都在客觀上決定了光刻制程中采用的掩模是需要仔細(xì)保護(hù)的物品,應(yīng)盡量避免在使用或者存儲(chǔ)、運(yùn)輸過(guò)程中受到損傷。
掩模通常情況存放于特定的與其大小相適應(yīng)的掩模盒中,目前業(yè)界常用的掩模盒存在明顯的缺點(diǎn)。請(qǐng)參見圖1所示的掩模盒結(jié)構(gòu)示意圖,如圖所示,掩模盒1的形狀為方形,其大小和掩模尺寸相適應(yīng)。整個(gè)掩模盒分為盒身11和盒蓋12,盒身11和盒蓋12通過(guò)鉸鏈連接,可互相合攏或分開,以形成掩模盒1的關(guān)閉或開啟狀態(tài)。在盒身11和盒蓋12各自內(nèi)側(cè)的四個(gè)角上均有用于固定掩膜的固定裝置13,其作用是在掩模盒1中放置有掩膜時(shí)固定其中放置的掩模,使之不可在存儲(chǔ)或者運(yùn)輸過(guò)程中于盒中移動(dòng)。這種掩模盒的缺點(diǎn)在于,上述的固定結(jié)構(gòu)13是剛性的尖銳結(jié)構(gòu),出于固定需要,掩模放置狀態(tài)時(shí),固定結(jié)構(gòu)13必然很接近掩模。如前所述,構(gòu)成掩模的材料一般包括石英玻璃基材和基材上形成圖案的特殊材料薄膜,不管哪種材料,尤其以構(gòu)成圖案膜層的材料為甚,它們的物理強(qiáng)度都是非常脆弱的,在向掩模盒1放置掩模或者取出掩模的過(guò)程,掩模非常容易被固定結(jié)構(gòu)13所具有的尖角劃傷。一旦發(fā)生此種情況,被劃傷的掩模即告報(bào)廢,因此,使用目前常用的掩模盒在取放掩模時(shí)具有相當(dāng)高的風(fēng)險(xiǎn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了在使用掩模盒存放掩模時(shí),避免出現(xiàn)掩模被損傷而報(bào)廢的情況,提出本實(shí)用新型。
本實(shí)用新型的目的在于,提供一種掩模盒,其盒體內(nèi)部的支持裝置及支持裝置的位置均經(jīng)過(guò)專門的設(shè)計(jì),可以在很大程度上減少掩膜盒導(dǎo)致掩模損傷的現(xiàn)象。
本實(shí)用新型的掩模盒具有方形盒身以及盒蓋,所述盒身與盒蓋可以閉合以及開啟,以便取放以及存儲(chǔ)掩膜。在所述盒身與盒蓋的內(nèi)側(cè)邊沿布置有多個(gè)支持裝置,用于支持放置于掩膜盒中的掩膜;
其中,所述支持裝置具有凸起的弧形支持面,該弧形支持面的一端連接所述盒身或盒蓋的側(cè)壁,另一端連接盒蓋的頂面或者盒身的底面,構(gòu)成向盒內(nèi)側(cè)空間凸起的弧形支持面。
優(yōu)選地,所述弧形支持面與盒身底面或盒蓋頂面的接合部具有臺(tái)階狀的凸出結(jié)構(gòu),該凸出結(jié)構(gòu)用于防止掩模沿弧面滑動(dòng)而接觸到盒身底面,或者掩膜盒倒置時(shí)掩膜沿弧面滑動(dòng)而接觸到盒蓋頂面,引起碰傷或擦傷,另外此種結(jié)構(gòu)還可以使掩模固定于水平方向。
上述具有弧形支持面的支持裝置具有允許彈性形變的彈性結(jié)構(gòu),其采用經(jīng)過(guò)彈性處理的材料制成,如聚甲基丙烯酸甲酯,優(yōu)選地,盒身以及盒蓋的材料亦可采用同樣的材料,它們與所述支持裝置一體成型。所述盒身與盒蓋的內(nèi)側(cè)邊沿分別具有多個(gè)支持裝置。支持裝置的數(shù)量可以根據(jù)需要靈活調(diào)整,出于平衡支持的考慮,支持裝置在盒身,或者盒蓋的內(nèi)側(cè)邊沿分布的數(shù)目一般均不少于3個(gè)。
通常為了方便取放以及保護(hù)掩模,支持裝置在盒身或者盒蓋中的位置需要經(jīng)過(guò)特別設(shè)計(jì)。以盒身部分的設(shè)計(jì)為例,在其內(nèi)側(cè)具有4個(gè)支持裝置的情況,這些支持裝置一般不設(shè)于所述方形盒身的內(nèi)角頂點(diǎn)部分,4個(gè)支持裝置可以兩兩對(duì)稱地分布在所述盒身內(nèi)側(cè)的邊沿上,以平衡支持掩膜盒中放置的掩膜。例如可以采用如下的設(shè)置方式,兩個(gè)所述的支持裝置等距地分布在盒身一個(gè)內(nèi)角的兩個(gè)側(cè)邊上,另兩個(gè)支持裝置則對(duì)應(yīng)地分布于對(duì)角的兩個(gè)側(cè)邊上,在這種設(shè)置方式下,所述4個(gè)支持裝置靠近盒身內(nèi)角中的一組對(duì)角兩兩對(duì)稱地分布,而較為遠(yuǎn)離另一組對(duì)角。盒蓋內(nèi)側(cè)邊沿的支持裝置也可以作同樣的設(shè)置。上述設(shè)計(jì)方式不光可以在掩膜得到穩(wěn)定支持的前提下達(dá)到取放更加方便的效果,也不容易因取放不當(dāng)而產(chǎn)生劃傷。
此外,基于以上考慮,本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)需要另行設(shè)計(jì)支持裝置的布置方案。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:
1、由于采用具有凸起的弧形支持面的支持裝置,掩模放置于盒中時(shí),其與支持裝置的接觸面積大為減少,這樣可以得到最大的掩模與支持裝置及掩膜盒其它部件之間的空間,有利于避免掩模被支持裝置損傷;
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





