[實用新型]采用流體旋轉自清洗密封面的真空界面閥

無效

• 申請號: 200920035218.5
• 申請日: 2009-03-12
• 公開（公告）號: CN201363426Y
• 公開（公告）日: 2009-12-16
• 發明（設計）人: 周忠良
• 申請（專利權）人: 周忠良
• 主分類號: F16K1/00
• 分類號: F16K1/00;F16K31/126
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所
• 代理人: 曹祖良

1、一種采用流體旋轉自清洗密封面的真空界面閥，包括在閥體(17)上設置的閥殼(13)，在閥體(17)內設置有閥腔(18)，在閥體(17)上設置有與閥腔(18)連通的閥門入口段(15)、閥門出口段(1)，在閥腔(18)具有間歇性封堵閥門出口段(1)入口端的密封體(2)，密封體(2)上連接驅動桿(4)，驅動桿(4)伸入閥殼(13)內，在閥殼(13)內壁粘附有隔膜(12)，隔膜(12)中部固定在驅動桿(4)上，使得閥殼(13)內部空間形成上下兩個腔體，驅動桿(4)上端部與閥殼(13)之間設有彈簧裝置，在隔膜(12)上方的閥殼(13)上設有氣缸接口(11)，其特征是：所述閥門入口段(15)與閥腔(18)呈偏心設置。

2、如權利要求1所述的采用流體旋轉自清洗密封面的真空界面閥，其特征是：密封體(2)上固定有支撐板(3)，密封體(2)通過支撐板(3)固定在驅動桿(4)下端部。

3、如權利要求1所述的采用流體旋轉自清洗密封面的真空界面閥，其特征是：在驅動桿(4)上固定有安裝板(5)，所述隔膜(12)的中部附著在安裝板(5)上。

4、如權利要求1所述的采用流體旋轉自清洗密封面的真空界面閥，其特征是：所述彈簧裝置包括在驅動桿(4)上端部固定的下磁鐵塊(6)，在驅動桿(4)上端部對應的閥殼(13)內壁上設有上磁鐵塊(8)，在閥殼(13)內壁與安裝板(5)上表面之間設有復位彈簧(9)。

5、如權利要求1所述的采用流體旋轉自清洗密封面的真空界面閥，其特征是：在閥殼(13)內壁上設有套于上磁鐵塊(8)外的導磁套(7)。

6、如權利要求1所述的采用流體旋轉自清洗密封面的真空界面閥，其特征是：在閥殼(13)底端部設有導向管(19)，所述驅動桿(4)滑動插接在導向管(19)內孔中。