[實用新型]一種用于CRT的蒸鋁裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920034216.4 | 申請日: | 2009-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN201538812U | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發(fā)明(設計)人: | 胡葆華;常啟安;楊熙;劉玉宏 | 申請(專利權)人: | 彩虹顯示器件股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/20;H01J9/20 |
| 代理公司: | 西安智大知識產權代理事務所 61215 | 代理人: | 弋才富 |
| 地址: | 712021*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 crt 裝置 | ||
1.一種用于CRT的蒸鋁裝置,包括大底座(1)及其相配置的小底座(2)和夾板(3),其特征在于,大底座(1)的表面上有凹槽(4)、第一螺孔(5)和第二連接螺孔(6),大底座1的凹槽(4)與小底座(2)的外形大小相同,小底座(2)表面有安裝槽(9)、第二連接螺孔(8)和第二螺孔(7),小底座(2)安裝在大底座(1)的凹槽(4)內,夾板(3)上配置有第三螺孔(9),夾板(3)壓在小底座(2)上,小底座(2)的第二螺孔(7)與夾板(3)的第三螺孔(9)通過螺絲連接固定。
2.根據權利要求1所述的一種用于CRT的蒸鋁裝置,其特征在于,所述的第一螺孔(5)、第二螺孔(7)、第三螺孔(9)的直徑均大于3mm。
3.根據權利要求1所述的一種用于CRT的蒸鋁裝置,其特征在于,所述的大底座(1)的第一連接螺孔(6)與小底座(2)的第二連接螺孔(8)通過扁銅線連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





