[實(shí)用新型]一種用于射頻微機(jī)電系統(tǒng)的圓片級(jí)封裝機(jī)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200920034165.5 | 申請(qǐng)日: | 2009-08-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201525748U | 公開(公告)日: | 2010-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉澤文;王政;李祥;尹明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B81B7/00 | 分類號(hào): | B81B7/00 |
| 代理公司: | 西安智大知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 61215 | 代理人: | 賈玉健 |
| 地址: | 100084 北京市10*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 射頻 微機(jī) 系統(tǒng) 圓片級(jí) 封裝 機(jī)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及射頻微機(jī)電系統(tǒng)(RF?MEMS)的封裝技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種用于射頻微機(jī)電系統(tǒng)的圓片級(jí)封裝機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)
射頻微機(jī)電系統(tǒng)(RF?MEMS)產(chǎn)生于20世紀(jì)90年代,它是射頻通訊技術(shù)和MEMS技術(shù)的發(fā)展和相互交叉的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的研究熱點(diǎn)。
由于RF?MEMS的研究近年來發(fā)展迅速,各種高性能的RF?MEMS器件已經(jīng)相繼地報(bào)道。但是與集成電路不同的是,目前關(guān)于RF?MEMS器件的封裝并沒有一個(gè)非常好的方案,這主要是由于RF?MEMS器件其本身的特點(diǎn)決定的。首先,一般來說RF?MEMS器件都有一個(gè)可動(dòng)的懸空部分,這個(gè)部分在封裝過程不能受到損害,否則器件就失效了,這一點(diǎn)為其封裝帶來了難度。其次,RF?MEMS器件在工作時(shí)需要一個(gè)密封的環(huán)境來保證其穩(wěn)定有效地工作。最后,作為射頻器件,對(duì)于RF?MEMS信號(hào)在封裝結(jié)構(gòu)中如何引出和互連,也是RF?MEMS封裝技術(shù)上的難點(diǎn)。現(xiàn)有的關(guān)于RF?MEMS的封裝方案在文獻(xiàn)1(文獻(xiàn)1:Entesari?K.,Rebeiz?G.M.,“A?Low-Loss?Microstrip?Surface-Mount?K-BandPackage”,in?Proceedings?of?the?1st?European?MicrowaveIntegrated?Circuits?Conference,EuMIC?2006,2007,pp.537-540)提到了打孔封裝方案,其高頻性能好,但其需要打孔工藝,該工藝由于其工藝復(fù)雜價(jià)格昂貴而在大規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用中受到限制;在文獻(xiàn)2(文獻(xiàn)2:Carchon?G.J.,Jourdain?A,“Integration?of?0/1-LevelPackaged?RF-MEMS?Devices?on?MCM-D?at?Millimeter-WaveFrequencies”,IEEE?Transactions?on?Advanced?Packaging?2007,v30,pp.369-376)提到的大凸點(diǎn)直接倒裝焊的封裝方案,由于其凸點(diǎn)的寄生參數(shù)和可靠性問題而限制其應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于射頻微機(jī)電系統(tǒng)的圓片級(jí)封裝機(jī)構(gòu),大大降低了對(duì)器件射頻性能的影響。
為了達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種用于射頻微機(jī)電系統(tǒng)的圓片級(jí)封裝機(jī)構(gòu),包括襯底2,襯底2上設(shè)置有RF?MEMS器件1和信號(hào)傳輸線3;襯底2通過密封材料4與頂蓋材料5壓焊在一起,襯底2的四周有斜角10,信號(hào)傳輸線3和側(cè)壁引線7鋪設(shè)在斜角10上相連,并與封裝頂引線8連接到焊球9。
如果密封材料4的厚度小于40um,頂蓋材料5上腐蝕有空腔6。
所述的側(cè)壁引線7可設(shè)置在封裝結(jié)構(gòu)的四周,并不限定于封裝的兩側(cè)。
所述的封裝頂引線8起著連接焊球9和側(cè)壁引線7的作用,并不限定于一個(gè)方向,只要保證引線相互之間間距足夠不發(fā)生影響即可。
本實(shí)用新型避免了傳統(tǒng)的襯底打孔的工藝,可以有效地保證RFMEMS器件1的可動(dòng)部分結(jié)構(gòu)受到保護(hù)并且形成密封環(huán)境,保證RFMEMS器件1的正常工作;空腔6可以降低封裝結(jié)構(gòu)對(duì)器件間互連引線的高頻性能的影響。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型側(cè)壁引線的封裝結(jié)構(gòu)的剖面圖。
圖2為本實(shí)用新型的互連引線設(shè)計(jì)的剖面圖(a)和平面圖(b)。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的原理進(jìn)行詳細(xì)說明。
參見圖1,襯底2上設(shè)置有RF?MEMS器件1和信號(hào)傳輸線3;襯底2通過密封材料4與頂蓋材料5壓焊在一起;頂蓋材料5上腐蝕有空腔6;襯底2的四周有斜角10,信號(hào)傳輸線3和側(cè)壁引線7鋪設(shè)在斜角10上相連,并進(jìn)一步與封裝頂引線8連接到焊球9。
參見圖2,頂蓋材料5上面的信號(hào)傳輸線3通過在頂蓋材料5腐蝕出空腔6來減少影響;密封材料4上面的信號(hào)傳輸線3如果不長(zhǎng),即低于200微米可以不重新設(shè)計(jì),如果確定的信號(hào)傳輸線3的長(zhǎng)度超過200微米,則需要利用優(yōu)化公式,即常規(guī)應(yīng)用于計(jì)算CPW特征阻抗的保形映射的方法,重新設(shè)計(jì)信號(hào)傳輸線3以達(dá)到50歐姆匹配的目的。
本實(shí)用新型將帶封裝的RF?MEMS器件1通過側(cè)面引線連接到焊球9處,從而實(shí)現(xiàn)了封裝。該結(jié)構(gòu)避免傳統(tǒng)的RF?MEMS封裝需要打通孔的工藝,有效地保證器件可動(dòng)部分結(jié)構(gòu)受到保護(hù)并且形成密封環(huán)境,從而保證RFMEMS器件的批量制作,和器件的正常工作。
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