[實用新型]一種新型的高壓MOS管無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920033856.3 | 申請日: | 2009-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN201430141Y | 公開(公告)日: | 2010-03-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 羅義;羅季義;謝江;徐向軍;朱巍 | 申請(專利權)人: | 西安芯派電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/085 | 分類號: | H01L27/085;H01L29/78;H01L29/808;H01L29/06;H01L29/423 |
| 代理公司: | 西安文盛專利代理有限公司 | 代理人: | 佘文英 |
| 地址: | 710075陜西省西安*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 高壓 mos | ||
1、一種新型的高壓MOS管,包括漏極區(qū)域(1),N+襯底區(qū)域(2),N-漂移區(qū)域(3),P-阱區(qū)域(4),P+區(qū)域(5),N+有源區(qū)域(6),源極區(qū)域(7),柵極區(qū)域8,其特征是在N-漂移區(qū)域(3)的上部設有JFET區(qū)域,P-阱區(qū)域(4)具有淺結深,柵極區(qū)域(8)是短柵極。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





