[發明專利]電子裝置殼體及其制作方法

無效

• 申請號: 200910312423.6
• 申請日: 2009-12-28
• 公開（公告）號: CN102111970A
• 公開（公告）日: 2011-06-29
• 發明（設計）人: 姜傳華;杜琪健
• 申請（專利權）人: 深圳富泰宏精密工業有限公司
• 主分類號: H05K5/00
• 分類號: H05K5/00;C03C17/245;C03C17/42;C04B41/85;C04B41/89
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技術領域

本發明是關于一種電子裝置殼體及其制作方法，尤其是關于一種具有自清潔功能的電子裝置殼體及其制作方法。

背景技術

現有電子產品(如手機、PDA等)的殼體常被鍍覆一金屬層或金屬氧化物層而使產品具有金屬質感，從而吸引消費者眼球。該金屬層通常以不導電電鍍的方式形成，因該金屬層不導電，從而可避免對信號產生干擾。該不導電的金屬層或金屬氧化物層通常為透明狀，其形成于殼體上之后，與殼體的基材或形成于殼體上的其他油漆層共同使得殼體呈現出多彩的具金屬質感的外觀。

然而，上述殼體雖然具有美麗的外觀，卻不具備自清潔功能，實用性欠佳。因為電子產品在使用過程中，其表面會慢慢的積聚很多灰塵，同時人手上的汗漬、或人手上涂抹的護手霜等均很容易殘留在電子產品的表面上，這些灰塵，特別是按鍵周圍的灰塵及殘留的污染物難以用抹布或其它清潔物徹底的去除。顯然，上述殼體亦不能對這些灰塵及殘留的污染物自動進行去除，因而實用性不強，不能給消費者帶來附加的使用價值，降低了產品的競爭力。

發明內容

鑒于此，有必要提供一種既具有金屬質感外觀又具有自清潔功能的電子裝置殼體。

另外，還有必要提供一種上述電子裝置殼體的制作方法。

一種電子裝置殼體，其包括一基體及形成于基體表面的納米二氧化鈦膜，該納米二氧化鈦膜為金紅石相晶格結構或金紅石相與銳鈦礦相的混合晶格結構，其厚度在10-100nm之間。

一種電子裝置殼體的制作方法，其包括如下步驟：

提供一基體；

在該基體的表面真空濺鍍一納米二氧化鈦膜，該納米二氧化鈦膜為金紅石相晶格結構或金紅石相與銳鈦礦相的混合晶格結構，其厚度在10-100nm之間。

相較于現有技術，本發明電子裝置殼體通過真空濺鍍的方式在基體表面設置一具有上述特征的納米二氧化鈦膜，該納米二氧化鈦膜不僅可使殼體呈現出金屬外觀(且不干擾電子信號)，且該納米二氧化鈦膜可在可見光或紫外光的照射下分解掉粘附于殼體表面的灰塵或殘留的有機污染物，從而對殼體表面起到清潔的作用。同時由于該納米二氧化鈦膜具有較強的親水性，當有水流流過殼體表面時，該水流還會自動帶走殼體上被納米二氧化鈦膜分解之后的殘留污染物。如此，消費者在享受到該殼體美麗及高雅的外觀的同時又可時刻保持殼體表面的清潔，可消除細菌經由電子裝置殼體10傳播的可能，保證了人體的健康，大大增強了產品的實用性及競爭力。

附圖說明

圖1為本發明一較佳實施方式電子裝置殼體的剖視示意圖。

主要元件符號說明

????電子裝置殼體????10????基體????11????底漆層????13????納米二氧化鈦膜????15

具體實施方式

請參閱圖1所示，本發明一較佳實施方式的電子裝置殼體10包括一基體11、形成于基體11表面的底漆層13以及結合于底漆層13表面的納米二氧化鈦膜15。

基體11可為塑料基體，其可以注塑成型的方式制成。注塑該基體11的塑料可選自為聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)及聚碳酸酯與丙烯腈-苯乙烯-丁二烯共聚合物的混和物(PC+ABS)中的任一種。該基體11亦可為玻璃或陶瓷基體。

底漆層13可由丙烯酸樹脂漆、環氧樹脂漆、聚氨酯樹脂漆或酚醛樹脂漆噴涂形成于基體11的表面而形成。該底漆層13可為彩色或無色透明，其起到隔離納米二氧化鈦膜15與基體11的作用，以保護基體11免受納米二氧化鈦膜15的氧化分解作用。該底漆層13的厚度可在1-30μm之間。