[發(fā)明專(zhuān)利]發(fā)光二極管芯片及其制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910310725.X | 申請(qǐng)日: | 2009-12-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102082222A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林大為 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L33/48 | 分類(lèi)號(hào): | H01L33/48;H01L33/64 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 芯片 及其 制造 方法 | ||
1.一種發(fā)光二極管芯片,包括基板及具有p-n結(jié)的半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu),基板包括相對(duì)設(shè)置的第一表面及第二表面,該具有p-n結(jié)的半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu)形成于該基板的第一表面上,其特征在于:基板的第二表面形成若干盲孔,每一盲孔內(nèi)填充導(dǎo)熱材料以形成導(dǎo)熱柱。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管芯片,其特征在于:該導(dǎo)熱材料為銅。
3.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管芯片,其特征在于:該基板為藍(lán)寶石基板。
4.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管芯片,其特征在于:該具有p-n結(jié)的半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu)包括n型半導(dǎo)體層、p型半導(dǎo)體層、第一電極及第二電極,n型半導(dǎo)體層及p型半導(dǎo)體層堆疊于基板的第一表面上,第一電極與n型半導(dǎo)體層連接,第二電極與p型半導(dǎo)體層連接。
5.如權(quán)利要求4所述的發(fā)光二極管芯片,其特征在于:該n型半導(dǎo)體層及p型半導(dǎo)體層之間具有活性層。
6.一種發(fā)光二極管芯片的制造方法,包括:
提供一基板,該基板包括相對(duì)設(shè)置的第一表面及第二表面,該基板的第一表面上形成具有p-n結(jié)的半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu);
該基板的第二表面形成若干盲孔;
每一盲孔內(nèi)填充導(dǎo)熱材料形成導(dǎo)熱柱。
7.如權(quán)利要求6所述的發(fā)光二極管芯片的制造方法,其特征在于:采用蝕刻方式在該基板的第二表面形成該若干盲孔。
8.如權(quán)利要求6所述的發(fā)光二極管芯片的制造方法,其特征在于:該導(dǎo)熱柱是在每一盲孔內(nèi)鍍銅形成。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司,未經(jīng)鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L33-00 至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備;這些半導(dǎo)體器件的零部件
H01L33-02 .以半導(dǎo)體為特征的
H01L33-36 .以電極為特征的
H01L33-44 .以涂層為特征的,例如鈍化層或防反射涂層
H01L33-48 .以半導(dǎo)體封裝體為特征的
H01L33-50 ..波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換元件
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