[發明專利]金屬介質反射膜及外殼

有效

• 申請號: 200910306374.5
• 申請日: 2009-08-31
• 公開（公告）號: CN102004275A
• 公開（公告）日: 2011-04-06
• 發明（設計）人: 黃建豪
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G02B5/12
• 分類號: G02B5/12;B32B7/02;B32B15/04;H05K5/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種反射膜，尤其涉及一種金屬介質反射膜及具有該金屬介質反射膜的外殼。

背景技術

目前，為了使電子產品的外殼具有較強的金屬光澤和較高的色彩飽和度，都會選擇在外殼表面鍍上至少一層金屬介質反射膜。傳統的金屬介質反射膜從光線入射方向依次包括一介質膜層及一金屬膜層，而所述介質膜層由折射率依次高低高低的四層膜層組成；所述金屬膜層鍍設于基材的一側，而介質膜層鍍設于金屬膜層之上。

如圖1所示，從金屬膜層位于基材與介質膜層之間的金屬介質反射膜光學曲線可以看出，其對波長在370nm-580nm及650nm-700nm之間的光線的反射率都在30％以上，使得反射出的光線的色彩范圍較大，由于各種色彩之間的相互影響，導致經金屬介質反射膜反射出的光線的色彩飽合度較低。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種能提高色彩飽合度的金屬介質反射膜及具有該金屬介質反射膜的外殼。

一種金屬介質反射膜，其沿光線入射方向依次包括一金屬層及一介質層；所述介質層從遠離金屬層向鄰近該金屬層的方向依次包括第一膜層、第二膜層、第三膜層及第四膜層；所述第一膜層與第三膜層為低折射率材料層，所述第二膜層與第四膜層為高折射率材料層。

一種外殼，其包括一基材及形成于所述基材至少一表面上的金屬介質反射膜；所述金屬介質反射膜沿光線入射方向依次包括一金屬層及一介質層；所述介質層從鄰近基材向鄰近該金屬層的方向依次包括第一膜層、第二膜層、第三膜層及第四膜層；所述第一膜層與第三膜層為低折射率材料層，所述第二膜層與第四膜層為高折射率材料層。

相對于傳統的金屬介質反射膜，經過本發明提供的金屬介質反射膜反射出的可見光線的波長范圍相對較小，使得反射出的光線的色彩集中，從而有效提高了鍍有金屬介質反射膜的外殼的色彩飽和度。

附圖說明

圖1是傳統的金屬介質反射膜的光學示意圖。

圖2是本發明實施方式提供的外殼的結構示意圖。

圖3是本發明實施方式提供的金屬介質反射膜的光學曲線示意圖。

圖4是與圖3中不同層數介質層的金屬介質反射膜的對比實施例的光學曲線示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖，對本發明作進一步的詳細說明。

請參閱圖2，為本發明實施方式提供的一種外殼100，所述外殼100包括一個基材20及形成在所述基材20的一個表面21上的一個金屬介質反射膜10。所述基材20具體可為塑膠、陶瓷及金屬等材質制成。

所述金屬介質反射膜10沿光線入射方向依次包括一金屬層12及一位于金屬層12和基材20之間的介質層11。所述介質層11從鄰近基材20向鄰近該金屬層12的方向依次包括第一膜層111、第二膜層112、第三膜層113及第四膜層114。所述第一膜層111與第三膜層113為低折射率材料層，所述第二膜層112與第四膜層114為高折射率材料層。所述低折射率材料的折射率為1.63-1.68。優選地，所述低折射率材料為三氧化二鋁(Al₂O₃)。所述高折射率材料的折射率為1.76-1.87。優選地，所述高折射率材料為四氮化三硅(Si₃N₄)。所述高折射率材料及低折射率材料僅用于表明該兩類折射率材料之間的折射率高低之相對關系。所述金屬層12材料可選自銀(Ag)、鋁(Al)、鉻(Cr)等反射率在60％以上的材料中之一或幾種的混合。所述第一膜層111的膜厚范圍在45.59nm-81.59nm之間，第二膜層112的膜厚范圍在46.83nm-86.38nm之間，第三膜層113的膜厚范圍在58.52nm-104.72nm之間，第四膜層114的膜厚范圍在50.76nm-93.63nm之間，所述金屬層12的厚度范圍在3nm-15nm之間。

請參閱圖3，本發明實施方式提供的金屬介質反射膜10的光學曲線的波峰比較明顯，反射率在30％以上的波長范圍為370nm-520nm，而圖1中的波峰所覆蓋的范圍較大，反射率在30％以上的波長范圍為370nm-580nm及650nm-700nm，因此，從圖1與圖4中光學曲線的對比可以得出經過本實施方式提供的金屬介質反射膜10反射出的光線波長范圍比傳統的金屬介質反射膜反射出的光線波長范圍要窄，并且集中在一單色光線的波長附近，使得反射出的光線的色彩集中，從而色彩飽和度較高。