[發明專利]金屬介質反射膜及外殼

有效

• 申請號: 200910306374.5
• 申請日: 2009-08-31
• 公開（公告）號: CN102004275A
• 公開（公告）日: 2011-04-06
• 發明（設計）人: 黃建豪
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G02B5/12
• 分類號: G02B5/12;B32B7/02;B32B15/04;H05K5/00
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• 代理人: 暫無信息

1.一種金屬介質反射膜，其沿光線入射方向依次包括一金屬層及一介質層；所述介質層從遠離金屬層向鄰近該金屬層的方向依次包括第一膜層、第二膜層、第三膜層及第四膜層；所述第一膜層與第三膜層為低折射率材料層，所述第二膜層與第四膜層為高折射率材料層。

2.如權利要求1所述的金屬介質反射膜，其特征在于，所述第一膜層的膜厚范圍在45.59nm-81.59nm之間，第二膜層的膜厚范圍在46.83nm-86.38nm之間，第三膜層的膜厚范圍在58.52nm-104.72nm之間，第四膜層的膜厚范圍在50.76nm-93.63nm之間，所述金屬層的厚度范圍在3nm-15nm之間。

3.如權利要求1所述的金屬介質反射膜，其特征在于，所述低折射率材料的折射率為1.63-1.68，高折射率材料的折射率為1.76-1.87，所述高折射率材料及低折射率材料僅用于表明該兩類折射率材料之間的折射率高低之相對關系。

4.如權利要求1所述的金屬介質反射膜，其特征在于，所述低折射率材料為三氧化二鋁，所述高折射率材料為四氮化三硅。

5.如權利要求1所述的金屬介質反射膜，其特征在于，所述金屬層材料對可見光線的反射率大于60％。

6.一種外殼，其包括一基材及形成于所述基材至少一表面上的金屬介質反射膜；所述金屬介質反射膜沿光線入射方向依次包括一金屬層及一介質層；所述介質層從鄰近基材向鄰近該金屬層的方向依次包括第一膜層、第二膜層、第三膜層及第四膜層；所述第一膜層與第三膜層為低折射率材料層，所述第二膜層與第四膜層為高折射率材料層。

7.如權利要求6所述的外殼，其特征在于，所述第一膜層的膜厚范圍在45.59nm-81.59nm之間，第二膜層的膜厚范圍在46.83nm-86.38nm之間，第三膜層的膜厚范圍在58.52nm-104.72nm之間，第四膜層的膜厚范圍在50.76nm-93.63nm之間，所述金屬層的厚度范圍在3nm-15nm之間。

8.如權利要求6所述的外殼，其特征在于，所述低折射率材料的折射率為1.63-1.68，高折射率材料的折射率為1.76-1.87，所述高折射率材料及低折射率材料僅用于表明該兩類折射率材料之間的折射率高低之相對關系。

9.如權利要求6所述的外殼，其特征在于，所述低折射率材料為三氧化二鋁，所述高折射率材料為四氮化三硅。

10.如權利要求6所述的外殼，其特征在于，所述金屬層材料對可見光線的反射率大于60％。