[發(fā)明專(zhuān)利]模仁以及微光學(xué)透鏡陣列的制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910302641.1
• 申請(qǐng)日: 2009-05-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101900842A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-12-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 駱世平
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G02B3/00
• 分類(lèi)號(hào): G02B3/00;G03F7/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)元件的制造領(lǐng)域，尤其涉及一種用于壓印成型微光學(xué)透鏡陣列的模仁以及微光學(xué)透鏡陣列的制造方法。

背景技術(shù)

隨著光電產(chǎn)品的發(fā)展，微光學(xué)透鏡因?yàn)榭稍谛∶娣e產(chǎn)生光學(xué)效果，已成為光電產(chǎn)業(yè)需求甚廣之基礎(chǔ)元件。例如液晶顯示器之背光板即使用光學(xué)透鏡陣列，以達(dá)到使背光均勻化之效果。因此利用各種制程制造微光學(xué)元件的技術(shù)已經(jīng)成為各界競(jìng)相發(fā)展的技術(shù)。

目前，有不少制造微光學(xué)透鏡陣列的方法，其中，壓印成型微光學(xué)透鏡

的方法一般是在一基板，例如硅晶圓上涂布成型材料，利用預(yù)先制做好的微光學(xué)透鏡模具壓于該成型材料之上，經(jīng)過(guò)固化后在硅晶圓上形成微光學(xué)透鏡陣列。一般地，在壓印過(guò)程中都存在將模仁和硅晶圓對(duì)準(zhǔn)的步驟，以提高產(chǎn)品的精確度和質(zhì)量，例如，在模仁和硅晶圓上分別制造對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，然后將兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)即可。

然而，由于微光學(xué)透鏡模仁以及位于其上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記通常是利用超精密加工技術(shù)制造得到的，其線(xiàn)寬在100微米左右，而在硅晶圓上制造的標(biāo)記是采用微影制程(lithography)制造的，其尺寸可精確到1微米，因此兩個(gè)標(biāo)記相差兩個(gè)數(shù)量級(jí)，導(dǎo)致微光學(xué)透鏡模仁和硅晶圓無(wú)法精確對(duì)準(zhǔn)；另外，在制造微光學(xué)透鏡時(shí)無(wú)法預(yù)知偏差到底有多大，只能在生產(chǎn)制造完畢之后根據(jù)硅晶圓上的產(chǎn)品分布測(cè)算出制造時(shí)的位置偏差，繼而在下一次生產(chǎn)時(shí)將這種偏差考慮進(jìn)去，以便盡可能將模仁和硅晶圓對(duì)準(zhǔn)。但是這種方法顯然帶來(lái)較高的次品率，產(chǎn)品的合格率難以到達(dá)量產(chǎn)的要求。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，有必要提供一種壓印成型微光學(xué)透鏡陣列的模仁以及微光學(xué)透鏡陣列的制造方法。

一種微光學(xué)透鏡陣列的制造方法，其包括以下步驟：提供一個(gè)模仁，該模仁具有第一表面，該第一表面具有采用微影制程制作的第一標(biāo)記，以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二標(biāo)記；測(cè)得該第二標(biāo)記相對(duì)該第一標(biāo)記的偏移量；提供一基板，該基板具有一個(gè)第二表面；于該第二表面采用微影制程制作第三標(biāo)記，該第三標(biāo)記在該第二表面的位置與該第一標(biāo)記在該第一表面的位置相同；先將該第三標(biāo)記與該第一標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)；再根據(jù)該偏移量移動(dòng)該基板以使該第三標(biāo)記與該第二標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)；于該模仁或該基板上施加成型材料，并壓印成型該微光學(xué)透鏡陣列。

一種模仁，其具有第一表面，該第一表面具有采用微影制程制作的第一標(biāo)記，以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二標(biāo)記。

本發(fā)明提供的微光學(xué)透鏡陣列的制造方法在一個(gè)模仁的表面制作兩種標(biāo)記，這兩種標(biāo)記的精確度不同，因此可以使基板上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與兩種標(biāo)記逐次對(duì)準(zhǔn)，以達(dá)到提高對(duì)準(zhǔn)精確度的目的。本發(fā)明提供的模仁的表面具有兩種標(biāo)記，這兩種標(biāo)記的精確度不同，因此可以使基板上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與兩種標(biāo)記逐次對(duì)準(zhǔn)，以達(dá)到提高對(duì)準(zhǔn)精確度的目的。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例提供的形成有第一標(biāo)記的一金屬板的俯視圖。

圖2是圖1的金屬板進(jìn)一步加工所形成的模仁的俯視圖。

圖3是本發(fā)明第一實(shí)施例提供的具有第三標(biāo)記的基板的俯視圖。

圖4是本發(fā)明第一實(shí)施例提供的模仁與基板對(duì)準(zhǔn)的效果圖。

圖5是本發(fā)明第二實(shí)施例提供的第三標(biāo)記的放大示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。

請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明第一個(gè)制造微光學(xué)透鏡陣列的實(shí)施例首先提供一金屬板10。該金屬板10具有一個(gè)直徑為8時(shí)的圓形第一表面12，在該第一表面12采用微影制程制作兩個(gè)第一標(biāo)記21。每個(gè)第一標(biāo)記21呈“十”字形，理論上第一標(biāo)記21可以位于該第一表面12的任意一個(gè)位置，兩個(gè)第一標(biāo)記21的相對(duì)位置關(guān)系也可以任意，但是優(yōu)選地，兩個(gè)第一標(biāo)記21基本位于該第一表面12的中心，并且相對(duì)于該第一表面12的中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置，這樣的標(biāo)記容易識(shí)別。

優(yōu)選地，將采用微影制程制作的第一標(biāo)記21的線(xiàn)寬控制在10微米至30微米即可。

當(dāng)然，第一標(biāo)記21的數(shù)量不限，除了本發(fā)明實(shí)施例所顯示的兩個(gè)，還可以是一個(gè)或者三個(gè)、四個(gè)等。

第一標(biāo)記21的形狀也不限，例如還可以是三角形、正方形等，只要可以起到標(biāo)記的作用，便于識(shí)別和對(duì)準(zhǔn)即可。

該第一標(biāo)記21在黃光室中采用微影制程制作。

請(qǐng)參閱圖2，接下來(lái)，將該金屬板10置于超精密加工機(jī)臺(tái)上進(jìn)行加工以在第一表面12上制作模穴陣列14，該模穴陣列14包括多個(gè)模穴140，從而形成一模仁20。

一般地，利用超精密加工機(jī)臺(tái)可在直徑為8時(shí)的金屬板10上制作上千個(gè)模穴140。