[發明專利]模仁以及微光學透鏡陣列的制造方法無效
| 申請號： | 200910302641.1 | 申請日： | 2009-05-26 |
| 公開（公告）號： | CN101900842A | 公開（公告）日： | 2010-12-01 |
| 發明（設計）人： | 駱世平 | 申請（專利權）人： | 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B3/00 | 分類號： | G02B3/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 以及 微光 透鏡 陣列 制造 方法 | ||
1.一種微光學透鏡陣列的制造方法，其包括以下步驟：
提供一個模仁，該模仁具有第一表面，該第一表面具有采用微影制程制作的第一標記，以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二標記；
測得該第二標記相對該第一標記的偏移量；
提供一基板，該基板具有一個第二表面；
于該第二表面采用微影制程制作第三標記，該第三標記在該第二表面的位置與該第一標記在該第一表面的位置相同；
先將該第三標記與該第一標記對準；
再根據該偏移量移動該基板以使該第三標記與該第二標記對準；
于該模仁或該基板上施加成型材料，并壓印成型該微光學透鏡陣列。
2.如權利要求1所述的微光學透鏡陣列的制造方法，其特征在于：先于該第一表面制作該第一標記，再于該第一表面制作該第二標記。
3.如權利要求1所述的微光學透鏡陣列的制造方法，其特征在于：該第一標記、該第二標記和該第三標記均是“十”字形標記。
4.如權利要求1至3中任一項所述的微光學透鏡陣列的制造方法，其特征在于：該第一標記的線寬小于30微米大于10微米，該第三標記的線寬為1微米。
5.如權利要求1所述的微光學透鏡陣列的制造方法，其特征在于：該第三標記包括相互垂直的橫臂和縱臂，每條橫臂包括多條橫線，每條縱臂包括多條縱線，該多條縱線相互平行且間距為1微米，該多條橫線相互平行且間距為1微米。
6.如權利要求5所述的微光學透鏡陣列的制造方法，其特征在于：所述縱線和所述橫線相交的區域留白。
7.如權利要求1所述的微光學透鏡陣列的制造方法，其特征在于：該第一標記在黃光室中采用微影制程制作。
8.一種模仁，其特征在于：該模仁具有第一表面，該第一表面具有采用微影制程制作的第一標記，以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二標記。
9.如權利要求8所述的模仁，其特征在于：該第一標記的線寬小于30微米大于10微米。
10.如權利要求8所述的模仁，其特征在于：該第一標記和該第二標記均為“十”字形標記。
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