[發明專利]遮光片陣列、遮光片陣列制造方法及鏡頭模組陣列

無效

• 申請號: 200910301809.7
• 申請日: 2009-04-24
• 公開（公告）號: CN101872033A
• 公開（公告）日: 2010-10-27
• 發明（設計）人: 洪新欽
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G02B5/00
• 分類號: G02B5/00;G03F7/00;G02B7/02;H01L27/146
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種光學元件，尤其涉及一種晶圓級(wafer?level)遮光片陣列、遮光片陣列的制造方法及具有該遮光片陣列的鏡頭模組陣列。

背景技術

一般的鏡頭模組主要包括鏡片組、容納鏡片組的鏡筒、影像感測器和鏡座，影像感測器設置在鏡座內，鏡座容納可旋轉的鏡筒。但是，該鏡頭模組一般體積較大。

隨著攝像技術的發展，鏡頭模組與各種便攜式電子裝置如手機、攝像機、電腦等的結合，更是得到眾多消費者的青睞，所以市場對小型化鏡頭模組的需求增加。

目前小型化鏡頭模組多采用晶圓級鏡片，其一般是利用精密模具制造出微型鏡片陣列，然后與硅晶圓制成的影像感測器電連接、封裝，然后切割，得到的每一小單元都是一個晶圓級的相機模組。然而，部分入射光線并非直接通過折射后進入影像感測器，而是在各晶圓級鏡片的表面經過多次反射后進入影像感測器，從而形成眩光，造成影像模糊，眩光的存在嚴重影響了所拍攝影像的品質。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種能減少/消除眩光的遮光片陣列、一種制造該遮光片陣列的方法及具有該鏡頭模組陣列。

一種遮光片陣列包括一塊透光平板。該透光平板具有多個間隔分布的透光區及在該透光區周圍的粗糙區。該透光區為實心透光體，其具有兩個相對且平行的表面。該遮光片陣列還包括設于該粗糙區的遮光層。

一種遮光片陣列的制造方法包括以下步驟：提供一塊透光平板；于該透光平板的表面設置光阻層；對該光阻層曝光顯影，以保留該光阻層的多個間隔分布的預留部分；對該光阻層的預留部分周圍的透光平板的表面進行粗糙化處理，以使其成為粗糙面；于該粗糙面形成遮光層；去除該預留部分，使透光平板相應于原預留部分的表面曝露于外，以形成具有多個間隔分布的透光區的遮光片陣列。

一種鏡頭模組陣列包括一個鏡片陣列及與該鏡片陣列疊合在一起的遮光片陣列。該鏡片陣列包括多個鏡片。該遮光片陣列包括一塊透光平板。該透光平板具有多個間隔分布的透光區及在該透光區周圍的粗糙區。該透光區為實心透光體，其具有兩個相對且平行的表面。該遮光片陣列還包括設于該粗糙區的遮光層。該透光區的中心軸與該鏡片的中心軸重合。

與現有技術相比，本發明提供的遮光片陣列的遮光層設于遮光片陣列的粗糙面，可有效的減少/消除眩光現象：一方面該遮光層本身可以吸收光線，另一方面，即使有部分未被遮光層吸收的光線還可由該遮光層與粗糙面之間的粗糙介面而產生漫反射，從而更有效地防止散雜光進入鏡片陣列，減少/消除眩光。

附圖說明

圖1是本發明第一實施例的遮光片陣列的制造方法的流程圖，該遮光片陣列包括一塊透光平板。

圖2是提供的透光平板及設于該透光平板表面的光阻層的示意圖。

圖3是對圖2中的光阻層曝光、顯影后留下的多個間隔分布的預留部分的示意圖。

圖4是對該預留部分周圍的透光平板的表面進行粗糙化處理后的示意圖。

圖5是形成遮光層于該粗糙表面及預留部分表面的示意圖。

圖6是去除該預留部分，以形成具有多個透光區的遮光片陣列的示意圖。

圖7是形成濾光層于該透光區的表面的示意圖。

圖8是形成對位孔于該遮光片陣列的示意圖。

圖9是本發明第二實施例提供的遮光片陣列的示意圖。

圖10是本發明第三實施例提供的鏡頭模組陣列的示意圖。

具體實施方式

請參閱圖1，其為本發明第一實施例中遮光片陣列的制造方法的流程圖。該方法包括以下步驟：

提供一塊透光平板；

于該透光平板的表面設置光阻層；

對該光阻層曝光、顯影，以保留該光阻層的多個間隔分布的預留部分；

對該光阻層的預留部分周圍的透光平板的表面進行粗糙化處理，以使其成為粗糙面；

于該粗糙面形成遮光層；

去除該預留部分，使透光平板相應于原預留部分的表面曝露于外，以形成具有多個間隔分布的透光區的遮光片陣列。

下面將以制造遮光片陣列20為例對本發明實施例中遮光片陣列的制造方法進行詳細說明。

請參閱圖2，首先提供一塊透光平板10。于該透光平板10的表面設置光阻層102。本實施例中，該透光平板10由玻璃制成，采用旋涂方法在該透光平板10的表面設置負光阻層102。當然，該透光平板10也可以由塑料等透光材料制成。當然，也可以采用噴涂方法在該透光平板10的表面設置正光阻層。